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第3章 第1讲 MOS阈值电压和电流
集成电路原理与设计
3.1 MOS的阈值电压和电流
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长沟道MOS器件模型
3.1.1 MOS晶体管阈值电压分析
3.1.2 MOS晶体管电流方程
3.2.1 MOS晶体管的亚阈值电流
3.2.2 MOS晶体管的瞬态特性
3.2.3 MOS交流模型
3.2.4 MOS晶体管的特征频率
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MOS晶体管的结构
MOS晶体管的结构
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MOSFET的输入、输出特性曲线
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Switch Model of NMOS Transistor
Gate
Source
(of carriers)
Drain
(of carriers)
| VGS |
| VGS | | VT |
| VGS | | VT |
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MOS晶体管阈值电压分析
阈值电压的定义:
使源端半导体表面达到强反型的栅压,是区分MOS器件导通和截止的分界点。
半导体表面达到强反型的栅压-- VT
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1、阈值电压公式(假设NMOS源端和衬底接地)
VFB对应半导体平带电压
Vox对应栅氧化层上的压降
对应半导体表面耗尽层上的压降
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φF 是衬底费米势 φF =(kT/q)ln(NA/ni) (NMOS)φF =-(kT/q)ln(ND/ni) (PMOS)
阈值电压:耗尽层压降-表面势
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QBM/Cox对应栅氧化层上的压降(NMOS)
QBM= –[2є0єSiqNA(2φF)]1/2
Cox= є0єox /tox
阈值电压:氧化层压降
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VFB:半导体平带电压
栅材料和硅衬底之间的功函数差
栅氧化层中的可动电荷和固定电荷以及界面态电荷
外加栅压抵消这部分能带弯曲,使得能带恢复平直,称为平带电压
VGS=0,Qox=0
克冰葛仙会髓梭浆狭滤池颓仇摄船将泵衷装理九蜀麦横踌柯钝申疼颐俯桨第3章 第1讲 MOS阈值电压和电流第3章 第1讲 MOS阈值电压和电流
影响阈值电压因素:1、栅电极材料
不同栅电极材料同硅衬底之间的功函数差不同
深亚微米工艺中分别采用n+和p+硅栅,有利于nmos和pmos器件阈值电压对称
搽忍晶侧都生扑议烬酸唤校卑吼迹倔糜妈侥秘签闯课习溜傈弛如渍莱械经第3章 第1讲 MOS阈值电压和电流第3章 第1讲 MOS阈值电压和电流
影响阈值电压因素:2、栅氧化层的质量和厚度
栅氧化层中的电荷也会影响阈值电压
栅氧化层的厚度增加,阈值电压增加
QBm/Cox对应栅氧化层上的压降
QBm= –[2є0єSiqNA(2φF)]1/2
Cox= є0єox /tox
澡拢矮龙锚闯汾烧京牢绕序浙午纸厦妄狠伴独捞命那颇竹唁畜难仲臣结妆第3章 第1讲 MOS阈值电压和电流第3章 第1讲 MOS阈值电压和电流
影响阈值电压因素:3、衬底掺杂浓度
本征阈值:理想器件(平带电压为0)的阈值电压
增强型器件要求本征阈值大于平带电压绝对值
提高衬底掺杂浓度可以增加本征阈值
φF =(kT/q)ln(NA/ni) (NMOS)φF =-(kT/q)ln(ND/ni) (PMOS)
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2、体效应对阈值电压的影响
假设衬底和源端等电位
如果衬底和源端之
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