通过lcd洁净间气流改善提升良品率 increase tft lcd yield by improvement of clean room airflow.pdfVIP

2012年3月 洁净s空调技术CC＆AC 第1期 通过LCD洁净问气流改善提升 良品率 北京京东方光 电科技有限公司 ／高丽大学 元荣载 北京京东方光电科技有限公司 李 丽 李政 良 摘 要 在传统的洁净间气流管理管控的基础上，着重介绍了TFTLCD制造业用洁净室系统的特性，以及在 TFTLCD制造行业普遍出现的重要异常气流问题，提供 了针对性的有效气流改善实施方案，并确认 了气流 改善，产品良率改善的效果，提出了未来TFTLCD洁净间气流改善的主要发展方向。 关键词 TFTLeD；CleanRoom；AirflowImprovemenl~YieldImprovemen~Particle lncreaseTFTLCDYieldbyImprovementofCleanRoom AjrflOW Young-JaeWon，LiLiandLiZhengliang AbstractBasedonthegeneralcleanroom management，htepaperstudiesthecharacteristicofTFTLCD manufacturing clena room systemnadhtecurrentlymainproblem ofhteabnormalairflow．Forabnormalairflow,thereasonnadhteeffective improvementmehtodswereanalyzednadnitroducedbyhtispaper．Moreover，hteairflowandyieldresultofhtemiprove— mentwereconfirmed．AtthelastTFTLeD clena room airflowimprovementdevelopmentdkecfionnihtefuturewasmainly expected． Keywords TFTLCD；CleanRoom ；Aperturerate；Airflow Improvement；YieldImprovement；Particle 0 引言 证洁净室洁净度的关键 。所 以对于洁净度要求高的 由于TFT (ThinFilmTransistor)LCD技术成 TFTLeD制造等半导体芯片制造业，提升产品良 熟，在寿命、对比度、功耗、体积和重量等综合性 率，降低成本，最重要的是洁净室内部气流控制和 能上性能优 良，大规模生产特性好，自动化程度高， 改善 。总之，洁净室内气流的控制和改善，对于TFT 原材料成本低廉 ，发展空间广阔，迅速成为新世纪 LCD产品良率提升具有非常重要的意义。 的主流产品，是21世纪全球经济增长的一个亮点。 1 国内外技术发展现状 随着TFT-LCD产业的快速发展和技术逐步成 熟，对洁净室的要求越来越高，对其温度、湿度、粉 1．1国内外研究现状 尘、微震、气流、电子场、噪音、照明等生产条件 俄罗斯在2003年3月出版 了第一部 由AE·-费多 提出了更高的要求，尤其是粉尘 (Particle)，粉尘 托夫编著的有关洁净室技术专著。该书从洁净室技 是长期困扰液晶平板显示器生产 良率提升的一大难 术和气溶胶污染控制的理论基础到实践经验作了全 题。在一般的TFTLCD制造过程当中，由粉尘引 面的阐释 l【】。Young．JaeWon教授在 《电子厂房洁 起的不 良占产品不 良率的90％以上。 净室气流组织的理论及实验研究》中阐述了影响气 空气 中的浮游粒子运动受气体流动、布朗扩 流的主要因素，气流实测与模拟实验分析及变动预 散、重力、静电力、凝聚、蒸发等各种外界力共同 测[：】。王海桥等人在其编著的 《空气洁净技术》 作用。特别是粒径小于1lxm的