微光信号探测对准技术 the alignment technology of weak photoelectricit signal detection.pdfVIP

电子工业专用设备 先进光刻技术 Eguipment for Electronic Products Manufacturing 微光信号探测对准技术 杨兴平 程建瑞 ! ! # 上海微高精密机械工程有限公司 上海 201203 ! ! 摘 要 通过对光栅对准原理 结构的分析 以及在光刻设备中的实际应用 探讨微弱光电信号探 测对准技术# ! $ $ $ $ 关键词 微光电信号 探测 光纤耦合 对准 光刻设备 中图分类号! 文献标识码! TN305.7 A 文章编号：1004-4507 （2006）-0007-06 The Alignment Technology of Weak Photoelectricit Signal Detection YANG Xing-ping ， CHENG Jian-rui （Shanghai Nanpre Mechanics CO., 20 1203, China） ! Abstract This article through to diffraction grating alignment principle, structure analysis,As well as in lithography eguipment practical application,Discusses the weak photoelectricity signal survey alignment technology. ! Keywords Weak photoelectricit signal; Detection; Optic Fiber Coupling; Alignment; Lithography device 1 引 言 经达到 0.1~0.01 !m 的水平 。 在光刻设备 的演变过程 中，对准系统始终采用 微 电子技术 的发展 ，不仅促使计算机技术突飞 光 电测量手段来完成 ，因为光刻过程 中，标记 图形 猛进 ， 也是光 电测量技术有 了更广 阔的应用空间， 深度大约在 150 nm 30 nm 左右 ，加上照 明光源 的 伴 随着光导纤维 的问世和新型光源 、传感器 、计算 局 限性等 因素造成成像光强度很弱 ，常规测量方法 机处理技术 、加工制造业 的发展 ，使得光 电检测进 很难捕捉到正确 的信号，在实际应用 中采用分级次 入一个新 的阶段 ，它不仅可 以完成人 的视觉触及 区 微光光电信号探测和处理技术进行对准性能的实现。 域 的图像测量 ，而且对于人眼无法涉及 的红外和紫 外波段 的图像测量也变成 了现实，从而把光学测量 2 原理分析 的主观性 （靠人 眼瞄准和测量）发展成客观 的光 电 图像测量 。 当前工程领域测量精度达到 0.1 （激光超 2.1 衍射成像与级次分离原理 外差干涉仪）~0.01 nm