磁控溅射掺铜TiO薄膜光学特性的分析.PDFVIP

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磁控溅射掺铜TiO薄膜光学特性的分析

真 空 科 学 与 技 术 学 报 34 1 第 卷 第 期 74 CHINESE JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY 2014 1 年 月 磁控溅射掺铜TiO2 薄膜光学特性的分析 1 1 2 1 1 1* 胡 斌 董 林 林 钰 姚志强 田 莉 辛荣生 (1. 郑州大学材料科学与工程学院 郑州 450001 ;2. 河南教育学院化学系 郑州 450014) Characterization of Optical Properties of Cu-Doped TiO2 Thin Films 1 1 2 1 1 1* Hu Bin ,Dong Lin ,Lin Yu ,Yao Zhiqiang ,Tian Li ,Xin Rongsheng (1. School of Material Science and Engineering ,Zhengzhou University ,Zhengzhou 450001 ,China ;2. Department of Chemistry ,Henan Education Institute ,Zhengzhou 450014 ,China) Abstract The Cu-doped TiO2 films were synthesized by RF /DC multi-target ,magnetron sputtering on glass sub- strates under the optimized condition. The impacts of the growth conditions ,including the Cu-content ,sputtering pow- er ,and annealing ,on the microstructures and properties of the Cu-doped TiO2 films were evaluated. The films were characterized with X-ray diffraction ,X-ray photoelectron spectroscopy ,and ultraviolet visible spectroscopy. The results show that the Cu-content strongly affects the properties of the films. For example ,Cu-doping resulted in a red-shift of the absorption edge of the anatase –phased TiO2 films ,with Cu + 2 implanted in its lattice as an acceptor impurity. However ,high Cu-content produced an increased density of defects. We suggest that Cu ions

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