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磁控溅射掺铜TiO薄膜光学特性的分析
真 空 科 学 与 技 术 学 报 34 1
第 卷 第 期
74 CHINESE JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY 2014 1
年 月
磁控溅射掺铜TiO2 薄膜光学特性的分析
1 1 2 1 1 1*
胡 斌 董 林 林 钰 姚志强 田 莉 辛荣生
(1. 郑州大学材料科学与工程学院 郑州 450001 ;2. 河南教育学院化学系 郑州 450014)
Characterization of Optical Properties of
Cu-Doped TiO2 Thin Films
1 1 2 1 1 1*
Hu Bin ,Dong Lin ,Lin Yu ,Yao Zhiqiang ,Tian Li ,Xin Rongsheng
(1. School of Material Science and Engineering ,Zhengzhou University ,Zhengzhou 450001 ,China ;2. Department of Chemistry ,Henan Education
Institute ,Zhengzhou 450014 ,China)
Abstract The Cu-doped TiO2 films were synthesized by RF /DC multi-target ,magnetron sputtering on glass sub-
strates under the optimized condition. The impacts of the growth conditions ,including the Cu-content ,sputtering pow-
er ,and annealing ,on the microstructures and properties of the Cu-doped TiO2 films were evaluated. The films were
characterized with X-ray diffraction ,X-ray photoelectron spectroscopy ,and ultraviolet visible spectroscopy. The results
show that the Cu-content strongly affects the properties of the films. For example ,Cu-doping resulted in a red-shift of
the absorption edge of the anatase –phased TiO2 films ,with Cu + 2 implanted in its lattice as an acceptor impurity.
However ,high Cu-content produced an increased density of defects. We suggest that Cu ions
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