红外发射率调制技术研究.PDFVIP

第31 卷 第4 期 红 外 技 术 Vol.31 No.4 2009 年4 月 Infrared Technology April 2009 红外发射率调制技术研究 路 远，李玉波，吴 丹，乔 亚 （电子工程学院安徽省红外与低温等离子体重点实验室，安徽合肥 230037 ） 摘要：物体红外发射率的调制具有广泛的应用前景。从理论上研究了红外发射率的调制机理，给出了 三种调制发射率的技术途径：机械式、半导体载流子调制和电化学式。机械式发射率调制技术是利用 不同发射率的材料组合来进行调制，通过调整不同材料在表面所占比例来调整发射率。半导体材料可 通过调制 PN 结中的自由电子浓度实现红外发射率的调节。电化学式调制可通过多层薄膜实现。通过 电场控制器件中变发射率薄膜层的离子和电子浓度，实现器件红外发射率的调制。 关键词：红外发射率；机械式；半导体；电化学 中图分类号：TN21 文献标识码：A 文章编号：1001-8891(2009)04-0236-04 A Study on the Modulation Technology of Infrared Emissivity LU Yuan ，LI Yu-bo ，WU Dan ，QIAO Ya (Key Lab of Infrared and Low Temperature Plasma of Anh ui Province, Electronic Engineering Institute, Hefei Anhui 230037, China) Abstract ：There is a wide usage to control the infrared emissivity of an object. The modulation mechanism had been studied and three modulation ways to control the emissivity were given: mechanical modulation, semiconductor modulation and electrochemistry modulation. For mechanical modulation, it adjusted the corporation of that variable materials which have different emissivity. For semiconductor modulation, it adujsted the consistency of free electrons in the PN Junction. For Electrochemistry modulation, it adjusted the consistency of ions and electrons in the modulation film of the apparatus with electric field. Key words：infrared emissivity；mechanical modulation ；semiconductor modulation；electrochemistry modulation 以根据实际情况，通过调整建筑的红外发射率，来控 引言 制建筑物热量的吸收与散发，从而节约能源。 目标的红外辐射强度由物体表面的发射率和温 鉴于发射率调制器件的应用前景，不少研究机构 度决定。对于大多数物体而言，物体的发射率基本上