退火对Ag-SiO复合薄膜形貌和光学特性的影响-本原扫描探针.PDF

维普资讯 助 能 财 许 2007年增刊 (38)卷 退火对Ag。SiO2复合薄膜形貌和光学特性的影响 汪壮兵 ，赵亚丽 2，粱 齐 ，明 海 2，许小亮2 (1．合肥工业大学 理学院，安徽 合肥 230009；2．中国科学技术大学 物理系，安徽 合肥 230026) 摘 要：使用磁控溅射制备 Ag和 SiO2相间的多层膜 ， 表面修饰及荧光表面增强效应u引，纳米银掺杂二氧化硅 系统研究了退火对复合薄膜形貌和光学特性的影响。实 复合颗粒的制备及表征 】【”。Ag—SiO2多层膜的研究也有 验发现退火时间越长，Ag颗粒直径越大，吸收谱峰位 报道u引。除了文献 7【】中提到的不同气氛退火的光吸收 相对较短的退火时间有红移现象，并且吸收谱峰比较 研究，其它退火效应对光吸收的影响甚少见到，尤其用 宽，比较强。在退火时间足够长的情况下，随着每层 磁控溅射方法制备Ag—SiO2相间的多层膜、研究退火对 SiO2厚度的减小，Ag颗粒直径也减小，吸收峰强度变 其形貌和吸收谱的影响尚未见报道。 小，峰宽变窄，峰位有蓝移现象。我们做了大量实验， 用分层循环镀膜的方法制备 Ag和 SiO2的复合薄 总结出了退火时间的计算公式。薄膜经过合适的退火时 膜，是一种比较好的镀膜方式，但是制备得到的复合薄 间，放置 20d后发现 出现小平面结构，Ag颗粒分裂， 膜是Ag颗粒镶嵌在 SiO2薄层之间，由于Ag复合薄膜 n 吸收谱峰宽变窄，吸收峰位蓝移。不同退火温度下的吸 的光增强效应是一种近场效应 ，其局域范围是Ag颗粒 c 收谱表明500℃是一个比较理想的退火温度。 之间的距离和颗粒半径 ，只有Ag颗粒分布在复合薄膜 . 关键词： 复合薄膜；退火；光吸收谱 ；原子力显微镜 的表面附近其局域能量才能被利用 ，退火可以使得 Ag 中图分类号： 0782．9 文献标识码：A 颗粒获取能量而扩散到薄膜的表面。本文的核心就是研 m 文章编号：1001．9731(2007)增刊．0354—04 究怎样通过热退火工艺使薄膜的光学性能达到最好，实 验发现退火温度、退火时间和每层 SiO2的厚度对薄膜 o 1 引 言 的形貌和光学特性有重要影响。 c . 纳米颗粒由于粒子尺寸小，比表面积大，表面原子 2 薄膜的制备 数多，表面能和表面张力随粒径减小而增大，其表现出 量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应和宏观量子隧道m用磁控溅射分层镀 Ag和 SiO2薄膜，改变 SiO2层 效应等一系列不同于常规固体的新奇特性，在催化、信 的厚度，经过几个循环，形成Ag膜分布在 SiO2薄膜之 p间的一种分层的夹层结构，总的膜厚为 24am。Ag与 息存储及非线性光学等领域有广阔的应用前景。将金属 s SiO2薄膜的溅射功率分别为 20W 和 80W,生长速率分 纳米颗粒镶