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酞菁光盘染料的研究进展
17 1 Vol.17 No.1
2000 11 Journal of GraduateSchool,AcademiaSinica Nov.2000
彭必先
(, 100101)
高德涛 闫天堂
(, 230026)
总结了酞菁光盘染料近十几年的合成进展, 以及其基 类型、结构与光物理性质
之间的关系, 并在应用方面总结了酞菁光盘染料结构与应用性能之间的关系, 对其在CD-
R 的应用前景方面作了简要分析.
酞菁光盘染料,CD-R 酞菁染料, 光盘记录介质, 酞菁染料,存储介质
、、、、,CD-R
,.,4 ,CD-R 2000
[ 1] [ 1]
30 .,2000 55 .CD-R
、、、.
CD-R , :、.
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1 CD-R
CD-R :
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(2),16 /.
(3)(CH)≥711nm(Ciba Co.).(EC )
718.5nm(Toyo Ink Co.).
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(6)、,Ames .
(7),.
:2000-10-30
:, , 1935 12 ,
43
第17 卷 中国科学院研究生院学报 第 1期
2
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