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氧化锌薄膜紫外光电导机理研究 uv photoconductive mechanism of zno thin films
SEMICONDUCTOR OPTOELECTRONICS Vol.27 No.1 feb.2006
材料、结构及工艺
氧化锌薄膜紫外光电导机理研究
李 琳!季振国!张亚红!韩伟智
浙江大学 硅材料国家重点实验室#浙江 杭州 310027$
摘 要! 分别采用反应磁控溅射和金属锌膜空气中热氧化两种方法!制备了两种氧化锌薄
膜 射线衍射实验发现!反应磁控溅射法制备的氧化锌薄膜结晶性能好!具有很高的 轴取向
X c
性!而金属锌膜热氧化法制备的氧化锌薄膜结晶性能相对较差!晶粒取向呈随机分布对上述两种
氧化锌薄膜进行了光电导测试!结果表明!反应磁控溅射制备的氧化锌薄膜的电阻率很高!没有明
显的光电导!而金属锌膜氧化法制得的氧化锌薄膜电阻率较小!光电导现象非常明显进一步分析
结果表明!金属锌膜热氧化制备的氧化锌薄膜的光电导主要来自于表面吸附气体的吸附与解吸
关键词! ZnO;薄膜;磁控溅射;光电导
中图分类号! 文献标识码! 文章编号! ( )
TN304. 21 A 1001-5868 2006 01-0052-03
UV Photoconductive Mechanism of ZnOThin films
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lI lin JI Zhen - uo Z~ANG Ya-hon ~AN ei-Zhi
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( 9 9 9 )
State Ke Lab.for Silicon Materials Zhe ian Universit Han zhou 310027 CHN
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Abstract TWo sets of ZnO thin films Were re ared on uartZ substrate. One set of them
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Was de osited directl b reactive ma netron s utterin the other set Was re ared b a tWo-ste
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