氧流量对ito和ito∶zr薄膜性能的影响 effect of oxygen flow rate on properties of ito and ito∶zr films.pdfVIP

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2017-08-18 发布于上海
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氧流量对ito和ito∶zr薄膜性能的影响 effect of oxygen flow rate on properties of ito and ito∶zr films.pdf

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氧流量对ito和ito∶zr薄膜性能的影响 effect of oxygen flow rate on properties of ito and ito∶zr films

SEMICoNDUCTDRoPr0ELECTRoNICSVoI．29No．1 Feb．2008 氧流量对ITO和ITOZr薄膜性能的影响张波，董显平，王新建，吴建生 J (上海交通大学材料科学与工程学院教育部高温材料及测试重点实验室．上海200240 摘要：利用双靶共溅法在玻璃衬底上沉积了zr掺杂ITo薄膜，对比研究了在不同氧流量加强，ITO：Zr比ITO薄膜具有较低的表面粗糙度。氧流量的上升降低了方阻和栽流子浓度， ITO，Zr薄膜具有更高的栽流子浓度。一定范围的氧流量可以改善薄膜的可见光透过率，但过量 s Zr比ITO薄膜具有更宽的光的氧却使得薄膜的光学性能变差。通过直接跃迁的模型得出ITO 学禁带。共溅法制备的ITO：Zr薄膜比ITO薄膜表现出更好的光电性能。关键词：ITO薄膜；锆；磁控溅射；氧流量 Effectof FlowRateon ofITOandITO：ZrFilms Oxygen Properties ZHANG Bo，DONG Xian-ping，WANGXin-jian，WUJian-sheng MaterialsandTestsof of for Education， (KeyLaboratoryHighTemperature Ministry School and ofMaterialsScience 200240，CHN) Engineering，ShanghaiJiaotongUniversity，Shanghai Abstract： IT0filmswere on substrate Zirconium-doped depositedglass byco-sputtering withtwo ofITOandITO：Zrfilms atdifferent technologytargets．Properties deposited oxygen flowrateswere leadstobetter structureand contrastivelystudied．Zr-doping crystalline filmshavelower thanITO theorientation films． strengthens of(400)plane．ITO：Zrroughness Theincreasein flowratereducessheetresistanceandcarrier oxygen filmsshow carrierconcentration．Thecertain flowratescan thevisible higher oxygen improve of exces