氧化液ph值对低温沉积ni-zn铁氧体薄膜的结构和磁性能的影响 influence of ph value of oxidizing solution on the microstructure and magnetic properties of ni-zn ferrite films deposited at low temperature.pdfVIP

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2017-08-18 发布于上海
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氧化液ph值对低温沉积ni-zn铁氧体薄膜的结构和磁性能的影响 influence of ph value of oxidizing solution on the microstructure and magnetic properties of ni-zn ferrite films deposited at low temperature

氧化液pH值对低温沉积Ni—Zn铁氧体薄膜的结构和磁性能的影响胡清平1，董泽华1，柏任流1，沈翔2，冯则坤2，黄诞枫2 (1．华中科技大学化学系，湖北武汉430074； 2．华中科技大学电子科学与技术系，湖北武汉430074) 薄膜具有尖晶石结构铁氧体的特征衍射峰。当氧化液的pH值从8．0增大到8．8时，薄膜的沉积速率和表面粗糙高饱和磁化强度和1．218kA／m的低矫顽力。这种优良的软磁薄膜可应用于射频感应器和微波频段的电磁干扰抑制器。关键词：Ni．zn铁氧体薄膜；旋转喷镀法；微结构；磁性能中图分类号：TM277+．1；0482．4+3文献标识码：A the Influenceof Valueof Solutionon pH Oxidizing Films and ofNi-ZnFerrite MagneticProperties atLow DepositedTemperature HU Ze—hual，BAIRen．1iul，SHEN Ze—kun2，HUANG Qing．pin91，DONG Xian92，FENG Dan—fen92 and 4300r)4．China, 1．DepartmentofChemistry,HuazhongUniversityofScienceTechnology,Wuhan Scienceand ofElectronic University 2．Department Technology,Huazhong and 43007ZChina ofScienceTechnology,Wuhan ferrite Abstract：Ni--Znfilmswiththicknessof were methodat90COH 1-2tam spin·-sprayplating preparedby the of of subs仃atesfrom solution andthe solution glass deoxidizing FeCl2+NiCl2+ZnCl2oxidizing CH3COONH4+ showsthatthediffractionofthe filmare with NH3H20+NaN02．XRD peaks pattern deposited corresponding ofthe the valueof