用光致抗蚀剂作牺性层材料制作可动微机械-光学精密工程.PDFVIP

用光致抗蚀剂作牺性层材料制作可动微机械-光学精密工程.PDF

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用光致抗蚀剂作牺性层材料制作可动微机械-光学精密工程

65 Vol.6,No. 5 199810 OPT ICS AND PRECISION ENGINEERING October, 1998 周明宝 ( 中国科学院光电技术研究所, 微细加工光学技术国家重点实验室  成都610209) 崔 铮  Pre ett D P ( 英国 瑟福国家实验室微结构中心) ,, ,, , , 1 , , , , , [ 1] , , , , [ 2- 4] , , , , , , [ 5- 7] , (CVD) , , , , , CVD , , , : 1997- 07- 14 : 1998- 04- 07 5 : 75 , , 2 1, , : , , , ; , , , , , , , , , , , , , , , , , ; , , , , , , , , , , , , , , , Fig. 1 Movable microme- , , chanical structures fabrication process , , by using photore- sist as sacrificial , , layers 76 6 3 , , , , 24 , 20m, 4m, 16m 4562, AZ EMS SPINNEP MA750 , NORDIKO , 100nm , , , ; Fig. 2Micro springs fabricated by using photoresist as , sacrificial layers , , Fig.3M icro comb fingers fabricated by using

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