ni-al薄膜的制备和电性能研究 preparation and electrical properties of ni-al thin films.pdfVIP

第26卷第1期 电 子 元 件 与 材 料 V01．26No．1 2007年1月 ELECTRONICCOMPONENTSANDMATERIALS Jan．2007 Ni．Al薄膜的制备和电性能研究 朱金波，周继承，李文娟 0083) (中南大学物理科学与技术学院，湖南长沙41 致密平整，结晶良好，且具有(111)择优取向。合金薄膜电阻随温度呈线性变化，表现为正的电阻温度系数。氧气的引 入阻碍了薄膜的晶化过程使薄膜表面粗糙度增加，晶粒细化，薄膜具有不同于合金薄膜的导电机理。 关键词：半导体技术；磁控共溅射；金属间化合物；Ni。Al纳米晶薄膜；电阻温度系数 中图分类号：TN405 文献标识码：A 文章编号：100l一2028(2007)0l一0036—04 andelec