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  • 2017-08-20 发布于上海
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oeic台面腐蚀工艺研究 research on the mesa etch of oeic.pdf

oeic台面腐蚀工艺研究 research on the mesa etch of oeic

第29卷 第2期 固体电子学研究与进展 V01.29.No.2 2009年6月 OFSSE Jun.,2009 RESEARCHPROGRESS OEIC台面腐蚀工艺研究’ 范超1’严 栗锐3 陈堂胜2’3杨立杰3冯欧3冯 忠3陈辰2门焦世龙h2叶玉堂1 (-电子科技大学光电信息学院,成都。610054)(2单片集成电路与模块国家级重点实验室,南京,210016) (3南京电子器件研究所,南京,210016) . 2008—03—31收穑.2008—05—21收改稿 摘要:深入研究了牺牲层腐蚀机制,摸索出完整的台面自停止工艺并实际应用于OEIC器件制作.实验中发现 了侧蚀、台面变形以及表面清洁等问题.从实验现象着手分析.并由此对工艺进行了改进,采用了新的腐蚀剂和工 艺步骤。改进后的工艺解决了上述问题,可以完全满足后续工艺的要求. 关键词

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