oeic台面腐蚀工艺研究 research on the mesa etch of oeic.pdfVIP

第29卷 第2期 固体电子学研究与进展 V01．29．No．2 2009年6月 OFSSE Jun．，2009 RESEARCHPROGRESS OEIC台面腐蚀工艺研究’ 范超1’严 栗锐3 陈堂胜2’3杨立杰3冯欧3冯 忠3陈辰2门焦世龙h2叶玉堂1 (-电子科技大学光电信息学院，成都。610054)(2单片集成电路与模块国家级重点实验室，南京，210016) (3南京电子器件研究所，南京，210016) ． 2008—03—31收穑．2008—05—21收改稿 摘要：深入研究了牺牲层腐蚀机制，摸索出完整的台面自停止工艺并实际应用于OEIC器件制作．实验中发现 了侧蚀、台面变形以及表面清洁等问题．从实验现象着手分析．并由此对工艺进行了改进，采用了新的腐蚀剂和工 艺步骤。改进后的工艺解决了上述问题，可以完全满足后续工艺的要求． 关键词