扩展傅里叶衍射理论在相移掩模中的应用 application of extended fourier diffraction theory for alternating phase shift mask.pdfVIP

第35卷第1期 光电工程 Vbl．35．No．1 2008年1月 Opto—ElectronicEngineering Jan．2008 文章编号：1003—501X(2008)0卜0040—05 扩展傅里叶衍射理论在相移掩模中的应用 刘 佳，张晓萍 (兰州大学信息科学与工程学院，兰州730000) 摘要：针对现代光刻中，超大数值孔径的情况下，通过简单的傅里叶衍射理论模拟掩模的传递函数的方法不够精 确，必须得考虑倾斜照明带来的阴影效应。因此本文针对交替式相移掩模，提出了一种考虑阴影效应的近似模型。 重新定义了阴影比率的公式。该方法是傅里叶衍射理论的扩展，是一种依赖于入射角的函数。分别给出了交替式 相移掩模空间域和空间频率域的传递函数的表达式。并对提出的近似模型的衍射效率以及干涉场光强分布进行了 仿真。结果表明，衍射效率和干涉场的强度分布是随着入射角的改变而改变的，不同线宽的衍射效率也不同。并 且衍射效率是关于零度入射角对称分布。 关键词：超大数值孔径；相移掩模；离轴照明；阴影效应；傅里叶衍射理论 中图分类号：TN305．7 文献标志码：A ofExtendedFourierDiffraction Application for PhaseShiftMask TheoryAlternating LIUJia，ZHANG Xiao-ping Abstract：Inorderto theresolutionof isneeded．However， impmve photolitho铲叩hicsystem，hypernumerical叩enIJre withFourierdifhactionwillbe e仃ectsmustbe oftransfer丘mction considered analysis theory inadequate，andshadowing for modelfor shiftmask illumination．Therefbre，anew印proximationaltematingphase consideringshadowing oblique effectswas illthis ratiowasredefined．ExtendedFourierdifhaction pmposedpaper，andshadowing theo巧wasused，and arelationof铀ction onincident for shmmaskwere forbom d印ended angle．EXpressionsaltematingphase given space domain domain．Dif勋ctione伍cienciesandi11terferencefieldsweresimulated model． and骶quency usingappmximation TheresuhsshowtllatdimactionefficienciesaIldinte疵rencefields withi