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纳米薄膜的光学参数及厚度提取方法研究 study on the extraction of optical constants and thickness of nanometer-scale film
第26卷第1期 光 电 子 技 术 VoI.26No.1
2006年3月 OPTOELECTRONICTECHNOLOGY Mar.2006
纳米薄膜的光学参数及厚度提取方法研究
金文豪,徐 东,杨莺歌,张亚非
(上海交通大学微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家重点实验室,
薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030)
摘 要:采用磁控溅射法在玻璃基底上分别制备了不同厚度的单层TiO。、Au纳米薄膜和双层
TiOz/Au纳米薄膜,并测量了这些薄膜的透射光谱。通过设计计算机程序拟合透射光谱;获取了薄
膜的折射率和消光系数随波长的变化曲线以及薄膜的厚度。这种拟合方法是以非线性约束优化理
论为基础的,具有透射光谱易测量、计算精度高等特点。
关键词:薄膜光学;光学常数;非线性约束优化算法
中图分类号:TN65文献标识码:A
ontheExtractionof Constantsand
Study Optical
Thicknessof F.1m
Nanometer—scale
Wen—hao,XU Ya—fei
JIN Dong,YANGYing—ge,ZHANG
(StateLab Lab ThinFilm
Key forMicrometer/nanometer for
ProcessingTechnologyCenter,Key
andFine theEducation
of of,Micrometer/nanometer
Technology Ministry,Institute Technology
of
ShanghaiJiaotongUniversity,Shanghai,200030,CHN)
and thinfilmswere on substrates
Abstract:Ti02,AuTi02/Au depositedglass using
andextinction
transmissionaremeasured.Thecurvesofrefractionindex
sputteringsystem.The spectra
coefficientwithdifferent andthethicknessoffilmswereobtainedfromtransmission
wavelength spectrum.
Basedona constrainednonlinear fitmethodhasthecharacteristicsof
programmingalgorithm,this high
and tOmeasurethetransmission
computingprecisioneas
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