纳米氧化物薄膜紫外光照下气敏性能研究进展 study progress of gas sensitive properties of nano oxide thin films under ultraviolet light radiation.pdfVIP

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2017-08-22 发布于上海
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纳米氧化物薄膜紫外光照下气敏性能研究进展 study progress of gas sensitive properties of nano oxide thin films under ultraviolet light radiation.pdf

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纳米氧化物薄膜紫外光照下气敏性能研究进展 study progress of gas sensitive properties of nano oxide thin films under ultraviolet light radiation

第27卷第11期电子元件与材料、，0I．27N0．Il 2008年11月 ELECTRONIC00MPONENTSANDMATERIALS NOV．2008 纳米氧化物薄膜紫外光照下气敏性能研究进展张宏1，林志东1一，艾华1 (1．武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室，湖北武汉430073；2．兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室，甘肃兰州 730050) 摘要：介绍了金属氧化物薄膜电极的制备方法与过程，阐述了紫外光作用于金属氧化物半导体的光照机理。基于实际应用和市场需求，就有关光照后金属氧化物薄膜的气敏性能的研究现状进行了探讨，并展望了其今后的应用与研究方向。关键词：电子技术；紫外光；综述；纳米金属氧化物薄膜；气敏性能中图分类号：TN304．92 文献标识码：A 文章编号：1001．2028(2008)1l-0008．．04 … n ●·● ·■ ^ ●1 ·’ ● m’ Ot sensitive oi-nantoOXitlethlntllms 叁itudyProgressgas properties underultravioletradiation light ZHANG Hual Hon91，LINZhi．don91一，AI ofPlasma (1．ProvinceKeyLaberatoryChemistryAdvancedMaterials，WuhanUniversityofTechnology,Wuhan430073，China； 2．State ofGansuAdvancedNonferrousMetal Univ Materials，I_anzhouofTech，Lanzhou KeyLaberatory 730050．，China) Abstract：Themethodand ofelectrodeformetaloxidethinfilmswereintroduced．Andthe preparing process light tO metal was radiationmechanismofultravioletthe oxidesemiconductorillustrated．Basedonactualuseandmarket light need， oxidethin after were the sensitive ofmetal films radiation werethefuture gas properties light explored．Prospectedapplication researchdirection． and words：electron metaloxidethin sensitive technolog