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SJT10424 1993半导体器件用钝化封装玻璃粉
一}IJJ
中华 人 民共和 国电子 行业 标 准
SJ/T10424-93
半导体器件用钝化封装玻璃粉
Glasspowderforpassivationpackagingfor
uesin semiconduoctor devices
1993-12-17发布 1994-06-01实施
中华人民共和国电子工业部 发布
中华人 民共和 国电子行业标准
半导体器件用钝化封装玻璃粉 sd/e10424-91
Glasspowderforpassivationfor
useinsemicoductosdevices
1 主题内容与适用范围
1.1 主题内容
本标准规定了半导体器件用钝化封装玻璃粉的技术要求,检验方法,检验规则及包装、标
志、运输、贮存。
1.2 适用范围
本标准适用于硅毕导体二极管及高压硅堆等器件用钝化封装玻璃粉。
2 引用标准
GB207 水泥比表面积测定方法
GB619 化学试剂采样及验收规则
GB5017 耐火材料真密度试验方法
GB9000.2 电子玻璃中二氧化硅的分析
GB9000.3 电子玻璃中三氧代二硼的分析
GB9000.5 电子玻璃中氧化铅的分析(萃取分离一EDTA络合滴定法)
GB9000.8 电子玻璃中氧化铝和氧化锌的分析(EDTA络合滴定法)
GB9000.10电子玻璃中氧化锉、氧化钠和氧化钾的原子吸典分析
GB9622.2 电子玻璃平均线热膨胀系数测试方法
3 分类
钝化封装玻璃粉分为中性粉、耐酸性粉及高压硅堆粉三个郑11^
4 技术要求
4门 钝化封装玻璃粉的外观为白色、淡黄色或淡紫色颗粒状粉未、应无肉眼可见杂质.
4.2 钝化封装玻瑙粉所用原料均应使用符合AR级(含AR级)以上的试剂。
4.3钝化封装玻璃粉的主要成分及对碱金属氧化物的要求应娜」符合表1和表2的规定。
表 1
认}r;9cvv}} ZnO B,O, sio} YbO
中性粉 50-65 一 20.30 一} 4-10 2^-10
耐敌性粉 40-50 一 20-25 一 6- 10 } 5-10
高压硅堆粉 } 55~65 18-25 一 } 3一8
} 7^-12 一
中华人民共和国电子工业部 1993-12-17批准 1994-06-01实施
一 一
sJ/T10424-93
表 2
~六}}5},I}A}CPPm) Na,O Ki0 Li,O
中性粉 30 40 镇10
耐酸性粉 30 40 10
高压硅堆粉
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