4真空技术基础.pdfVIP

第四章薄膜制备技术 §4.1真空及真空设备 真空的基本知识 稀薄气体的基本性质 真空的获得 真空的测量 真空的基本知识 为了使被研究的样品不被周围气氛所污染， 获取 “原子清洁”的表面，薄膜制备和衬底表面形 成过程往往是在真空或超高真空中进行的。目前， 人们所广泛使用的薄膜制备系统都具有真空系统。 真空： 低于一个大气压的气体空间。 真空的基本知识 真空单位： 帕斯卡（Pascal ）：Pa 托（Torr ）：1Torr=133.322Pa 旧的单位： Torr mmHg bar atm 1、毫米汞柱（mmHg ）：1mmHg=133.3Pa。 2 、托（Torr ）：1Torr=133.3Pa。 -1