3 333 lmm x射线全镂空自支撑透射光栅的制备与测试 fabrication and measurement of 3 333 lmm x-ray self-standing transmission gratings.pdfVIP

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2017-08-25 发布于上海
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3 333 lmm x射线全镂空自支撑透射光栅的制备与测试 fabrication and measurement of 3 333 lmm x-ray self-standing transmission gratings

显徽、测量、徼细加工技术与设备 3333l／mm x射线全镂空自支撑透射光栅的制备与测试李海亮h2，马刘明2 杰2，朱效立2，吴坚1，谢常青2，陈宝钦2， (1．北京工业大学激光工程研究院，北京100022； 2．中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室，北京 100029) 摘要：针对我国对高线密度X射线镂空透射光栅在空间环境探测和激光等离子体诊断方面的需求，将电子束光刻和X射线光刻技术相结合，制备出3333 1／mmX射线全镂空透射光栅，栅线宽度接近150nm，周期300nm，栅线厚度为500 am，有效光栅面积达到60％。首先利用电子束光刻和微电镀技术在镂空聚酰亚胺薄膜底衬上制备X射线母光栅掩模，然后利用X射线光刻和微电镀技术实现了光栅图形的复制品，之后采用紫外光刻和微电镀技术制作加强筋结构，最后通过腐蚀体硅和等离子体刻蚀聚酰亚胺完成镂空透射光栅的制作。在国家同步辐射实验室光谱辐射和计量实验站上对此光栅在5～23am波段进行了衍射效率标定。标定结果表明所制备的光栅栅线平滑，占空比合理，侧壁陡直，不同光栅之间一致性好，完全可以满足应用需求。关键词：镂空透射光栅；电子束光刻；X射线光刻；微电镀；衍射效率中图分类号：TN305 FabricationandMeasurementof 3333 l／mm X-Ray TransmissionGratin Self-Standing Li Xiaoli2，Wu Hailian91”，MaJie2，Zhu Jianl，XieChangqin92，ChenMin92 Baoqin2，Liu (1．InstituteLaser of Engineering，BeijingUniversity 100022。ChinaI ofTechnology，Beijing Nano-FabricationandNovelDevices 2．KeyLaboratoryof Integrated Microelectronics， Technology，Instituteof Chinese Academyof 100029，China) Sciences，Beijing Abstract：Tomeettheneedof transmissionfor highdensityX—rayself-standing gratingsspace andlaser inChina，3333