电子束光刻技术与图形数据处理技术 electron beam lithography technology and pattern data process technology.pdfVIP

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2017-08-25 发布于上海
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电子束光刻技术与图形数据处理技术 electron beam lithography technology and pattern data process technology.pdf

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电子束光刻技术与图形数据处理技术 electron beam lithography technology and pattern data process technology

技术论坛电子束光刻技术与图形数据处理技术陈宝钦 (中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室，北京100029) 摘要：介绍了微纳米加工领域的关键工艺技术——电子束光刻技术与图形数据处理技术，包括：电子束直写技术、电子束邻近效应校正技术、光学曝光系统与电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术、电子束曝光工艺技术、微光刻图形数据处理与数据转换技术以及电子束邻近效应校正图形数据处理技术。重点推荐应用于电子束光刻的几种常用抗蚀剂的主要工艺条件与参考值，同时推荐了可以在集成电路版图编辑软件L—Edit中方便调用的应用于绘制含有任意角度单元图形和任意函数曲线的复杂图形编辑模块。关键词：电子束直写(EBDW)；电子束邻近效应校正(EPC)；匹配与混合光刻；图形数据处理； L-Edit图形编辑器中图分类号：TN305．6；TN305．7文献标识码：A 1)06—0345—08 文章编号：1671—4776(201 ElectronBeam andPattern Technology Lithography Technolo DataProcess Chen Baoqin Microelectronics(IMECAS)， Laboratory。Instituteof (Micro-ProcessingNano-Technology Chinese 100029，China) AcademyofSciences，Beijing Abstract：The ofthemicro／nano—fabrication，i．e．，electron—beam keytechnologies lithography and data are electron—beamdirect presented，including technologypatternprocesstechnology andelectron-beameffect writing(EBDW)technologyproximity mixandmatch between andelectron-beam techniquesopticallithographysystem lithographysys— tam，electron-beam data andconversiontechno— lithographyprocesstechnology，patternprocess in in effectcorrection data proximity pat