电子束曝光控制软件系统设计与实现 design and implementation of e-beam lithography control software system.pdfVIP

第6期 微细加工技术 №．6 TECHNOLOGY 2007年12月 MICROFABRICATl0N Dec．-2007 文章编号：1003．8213(2007)06-0001．04 电子束曝光控制软件系统设计与实现 魏淑华1,2宋志1一，张今朝1，韩立1 (1．中国科学院电工研究所，北京100080；2．中国科学院研究生院，北京100039) 摘要：电子束曝光系统作为复杂半导体加工设备，需要功能强健的控制软件系统来保证其正常运 行。介绍了具有自主版权的EB(electronbeam)Writer电子束曝光控制软件系统，它由版图绘制模 块、对准控制模块和曝光控制模块组成，利用VC++6．0开发环境实现。实验结果表明，该软件系 统可实现微光刻及微纳加工版图的绘制编辑和电子束曝光全过程的控制，且具有可扩展性，特别 适用于各种由电子显微镜升级改造的电子束曝光系统。 关键词：电子束曝光；控制软件；版图设计；拼接；套刻 中图分类号：TN305．7；TP319文献标识码：A 1引言 r1塑竺竺望兰岫数粪篓三生成曝光文件 随着纳米量级器件时代的逼近，下一代光刻技 I 术成为研究热点，电子束直写曝光技术以其分辨率 高、试验周期短、灵活性强的优势在微细加工领域 三竺皇苎竺I 传输文件 发挥着重要作用…。电子束曝光系统是集电子光 对准控制模块 呈竺兰驾竺鍪篓三厂石赢 学、电气、机械、真空和计算机技术于一体的复杂半 标记管理卜J 导体加工设备，功能强健、操作灵活的控制软件系统 一 是其正常运行的重要保障。控制软件的主要功能应 磊丽1概辫 该包括：对系统进行初始化、对刻写场进行畸变校 曝光控制 正、控制工件台移动实现多场拼接、多层图形套刻对准 !垄堡竺竺兰HH竺堑墨竺垩 控制，曝光数据处理能力以及自动控制功能等[2-3]。 I．n而 EB(electronbeam)Writer电子束曝光控制系统 图1系统整体设计框架 是中国科学院电工研究所自主研制开发的电子束曝 光控制软件系统。开发环境为VisualC++6．0，可 应用于Windows98以上操作系统。依据电子束曝光 2版图绘制模块 对控制软件的要求，本软件系统共分为三个功能模 块，分别为版图绘制模块、对准控制模块和曝光控制 曝光数据的产生是软件系统中的一个重要环 模块。图1所示为整体设计框架，下面具体介绍各 节。由于目前各种集成电路CAD设计软件通常输 模块的设计原理和功能实现。 出的都是国际通用的图形数据传递的中介格式，例 收稿日期：2007—06．25 作者简介：魏淑华(1981一)，女，山东聊城人，中国科学院电工研究所博士研究生，从事电子束曝光设备软件系统与曝光工 艺研究；宋志(1982一)，女，山东滨州人，中国科学院电工研究所硕士研究生，从事电子束曝光设备软件系统的研究；张今朝 (1975一)，男，江苏徐州人，工程师，从事电子束曝光设备的研究。 万方数据 2