真空镀膜第二讲(共六讲)..pptVIP

第二讲 真空镀膜 设备性能及其匹配 一.凡是真空镀膜设备 都由以下配置组成 真空系统----机械泵（罗茨泵）+油扩散泵 无油泵组（分子泵 冷凝泵 钛扩散吸附泵）+管道阀门冷阱+真空室+冷却系统+真空测量 低真空的获得 获得低真空常采用机械泵，机械泵是运用机械方法不断地改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀，从而获得真空的装置。它可以直接在大气压下开始工作，极限真空度一般为1.33~1.33×10-2Pa，抽气速率与转速及空腔体积V的大小有关，一般在每秒几升到每秒几十升之间。 当转子顺时针转动时，空气由被抽容器通过进气管被吸入，旋片随着转子的转动使与进气管相连的区域不断扩大，而气体就不断地被吸入。当转子达到一定位置时，另一旋片把被吸入气体的区域与被抽容器隔开，并将气体压缩，直到压强增大到可以顶开出气口的活塞阀门而被排出泵外，转子的不断转动使气体不断地从被抽容器中抽出。 高真空的获得 目前，广泛使用的获得高真空的泵就是扩散泵。扩散泵是利用气体扩散现象来抽气的，它不能直接在大气压下工作，而需要一定的预备真空度（1.33~0.133Pa）。油扩散泵的极限真空度主要取决于油蒸汽压和气体分子的反扩散，一般能达到1.33×10-5~1.33×10-7Pa。抽气速率与结构有关，每秒几升~几百升不等。 真空中可近似地看作是没有气体“污染”的空间，因为真空中气体分子密度很低，被镀膜料的分子被气体分子撞碰的机会很低，在自由程以内才被镀在基片上成膜。 真空度单位和区域划分 真空状态下气体稀薄程度称为真空度，通常用压力值表示。1958年，第一界国际技术会议曾建议采用“托”(Torr)作为测量真空度的单位。国际单位制(SI)中规定压力的单位为帕(Pa)。我国采用SI规定。 1标准大气压(1atm)≈1.013×105Pa(帕) 1Torr≈1/760atm≈1mmHg 1Torr≈133Pa 我国真空区域划分为：粗真空、低真空、高真空、超高真空和极高真空。 粗真空 低真空 高真空 超高真空 极高真空 分为热阻蒸发，蒸发低温材料如金属，ZnS等。 电子枪蒸发——蒸高温材料 高频感应蒸发 电弧加热蒸发 磁控溅射蒸发 激光加热蒸发等几种 还有离子镀 每种蒸发手段均包括：蒸发器+电源控制系统（高压电源、灭弧系统、灯丝电源、束斑偏转扫描电源） 膜厚和蒸发速率控制系统 各类光学膜厚控制仪 石英晶体监控仪 IC/5,MD-360C,FTM-ⅢB 由微机控制的自动控制系统 （4）蒸发辅助系统 （工艺条件） A-基片转动系统 B-基片支架和均匀性修正挡板系统 C-基片加热系统 D-离子辅助蒸发系统和等离子体源 E-真空测量、充气、压强控制系统 F-水汽捕集系统（Polycold) G-水冷却系统 H-供气恒压系统 M-电、气、水报警制动系统 N-离子轰击系统（有离子源配置时则免配） C-基片加热系统 D-离子辅助蒸发系统和等离子体源 G-水冷却系统 （5）整机的电气与自动化控制系统 PLC程控真空系统、基底加热和转动 晶控仪与电子枪、挡板的联动控制 整机的全自动化 2 总的要求： 具有高性能，可操作性好，高稳定和高效率，适合高品质薄膜的规模化生产及其试验。其中高效率生产是主要目的之一。 高效率生产：高效益，设备的稳定性和好工艺，低成本（人工，材料耗材等） 3 分类 分为通用设备和专用设备两种，前者配置齐全，价位较高；后者不要求齐全，但必须有针对性的齐备配置，价位相对较低 。 如日本“光弛”公司的OTFC-1100DB型镀膜机为一种通用型的高档光学镀膜设备。适合大面积制备各种光学膜。 如日本“光弛”公司的NBPF-2型镀膜机为制备光通信业DWDM干涉滤光片的专用镀膜机，工件面积只有?250mm，配备光控+晶控，EB×2+RF源，基板1500r/m高速旋转，并精确温控，中心波长的不均匀性0.1nm（ ? 70mm内)，成膜时间12小时，中间不能间断。 前者价位65万$/台。后者100万$/台。 再如韩国“韩一”和“因泰克”两家生产的镀膜机大都是用晶控实现自动化生产的专用设备，每台30万$/台套价位。 再如德国“莱宝公司”的HEL10S磁控溅射镀膜机和日本“新科隆公司”的RAS磁控溅射镀膜机是最新研制出用于大面积生产光学薄膜的专用机，可制备出膜层结构致密，牢固，无漂移的高品质薄膜，而且效率非常高，打破了溅射机产量低的局限。 这两种溅射机价位为1