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锗纳米线的性能与应用 properties and applications of ge nanowires
纳米材料白结构
Nanomaterial&Structure
锗纳米线的性能与应用
裴立宅1,谭 伟2,赵海生1,俞海云1
(1.安徽工业大学材料科学与工程学院,安徽省金属材料与加工重点实验室,安徽马鞍山243002;
2.汉高华威电子有限公司,江苏连云港222006)
摘要:重点分析讨论了锗纳米线在电学、光学、光电导等特性及其在场效应晶体管制造方面的研
究应用现状与最新进展。综合分析表明,未经处理的锗纳米线表面存在一层氧化物及缺陷,与电
极连接时欧姆接触性能较差,在制备锗纳米线器件以前必须对锗纳米线表面进行钝化以便沉积电
极:对锗纳米线进行掺杂可以改善Ge纳米线的性能,制造出实用Ge纳米线器件。指出在一根
纳米线上生长硅,锗半导体纳米线形成硅/锗半导体界面,直接用单根纳米线制造具有完整功能的
电子器件是将来重要的研究方向。
关键词:锗纳米线;场效应晶体管;缺陷;欧姆接触;钝化
0091-06
。
and ofGenanowires
applications
Properties
Pei
Lizhail。TanWei:,ZhaoHaishen91,YuHaiyunl
of
ofMaterialsScienceand ofAnhui MaterialsScienceand
Laboratory ProcessingProvince,School Engineering,
(1.Key
Anhui of
UniversityTechnology,Ma’anshan243002,China;
2.HenkelHuaweiElectronics
Co.,Ltd.,Lianyungang222006,China)
researchstatusandrecent of and
Abstract:The photoconduction
developmentelectrical,optical
ofGe wellasthe ofGenanowiresinfieldeffecttransistorswere
nanowires,as application
properties
indetail.The showsthat Genanowireshas Geoxide and
analyzed analysis as.grown amorphouslayers
aresultthattheohmiccontactsbetweenGenanowiresandelectrodesare
defects,as poor.Therefore,
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