直流磁控溅射法制备非晶态氧化钒薄膜光学特性研究 study on optical properties of amorphous vanadium oxide thin films by dc magnetron sputtering.pdfVIP

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2017-08-27 发布于上海
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直流磁控溅射法制备非晶态氧化钒薄膜光学特性研究 study on optical properties of amorphous vanadium oxide thin films by dc magnetron sputtering.pdf

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直流磁控溅射法制备非晶态氧化钒薄膜光学特性研究 study on optical properties of amorphous vanadium oxide thin films by dc magnetron sputtering

第33卷第5期电子器件 V01．33No．5 ChineseJournalofElectronDcviⅫ 2010年10月 Oct．2010 on of VanadiumOxideThin Amorphous StudyOpticalProperties DC Films by MagnetronSputtering’ DU Min商un，WUZhiming+，LUOZhenfei，XUXiangdong，WANGTao，JIANGYadong ElectronicThinFilmsand Information，StateKeyLaboratoryof Integrated ／SchoolofOptoelectronic Devices、 and ElectronicScience 、 Universityof TechnologyofChina．Chengdu610054，China ， ofvanadium underdifferentsubstrate ofDCre- Abstract：Theopticalproperties oxide(V205)films temperatures active were electron magnetronsputteringstudied．X-Rayphotoelectronspectroscopy(XPS)、scanningmicroscope UV—Vis to the diffraction(XRD)，and (SEM)，X—ray spectrophotometer(UVl700)wereemployedanalyze resultsshowthat and and exceptingcompositionscrystallization，morphology films，respectively．Experiment optical substrate offilmswere affectedthe thesubstrate properties strongly by temperature．Astemperatureincreases，the filmsurfaceturns and thethickness measurementsindicatedthatthe rougherrougher，and decreases．Optical opti— calband decreasesfrom2．39eVto2．18eVwithsubstrate from160℃to320℃． gap