基底对光学薄膜弱吸收测量的影响.pdfVIP

! 第# 卷! 第$ 期 强 激 光 与 粒 子 束 %’( # ，)( $! ! $**+ 年$ 月 ,-., /0123 45623 5)7 /538-942 :25;6 =( ，$**+! 文章编号：! **?@A$$ （$**+ ）*$?*$B+?*B 基底对光学薄膜弱吸收测量的影响! ，$ 李! 霞 ，! 贺洪波 ，! 赵元安 ，! 范正修 （! 中国科学院上海光学精密机械研究所，上海$*C** ；! $ ! 中国科学院研究生院，北京***A# ） ! ! 摘! 要：! 对表面热透镜技术测量光学薄膜弱吸收低频调制时不同基底对测量的影响进行了理论分析。 用4DEFD—#** 分光光度计测量了G# 和石英基底的8HA 0B 单层膜的吸收值，将该组样品作为定标片；用表面 热透镜装置分别测量了:G+ 和石英空白基底及,I0$ ，JK0 两组不同基底不同厚度单层膜样品的吸收。通过分