40G传输网络的材料.docVIP

40G传输网络的材料 40G的材料也是一个问题。过去我们习惯用硅锗和镓砷，到了40G时代可能这两种材料的性能已经不能满足要求了，在很多场合下可能需要采用InP(铟磷)材料了。InP属于半导体-Ⅴ族成员，这种材料比硅锗的电压低，比镓砷的功耗低，尺寸非常小，可以小于1mm2，电光效应比其他材料都强，而且可以用来构成各种有源和无源的集成器件，还可以作为半导体应用在超高速电子电路，包括40GB/s速率的驱动电路等上。在这样的超高速度下其性能优于硅锗和镓砷材料。看来InP材料将是40G的首选材料。 当然它的缺点是制作比较困难，不像硅锗和镓砷材料那样成熟，特别是由于芯片尺寸太小，使得与光纤的耦合变得困难，而且插损大。为了克服这一困难，可以采用锥形结构作耦合来实现InP芯片模斑尺寸与光纤端面的匹配。 总之，由于上述种种技术难点以及电信市场的低迷，40G系统的规模商用化时间还需要两年左右的时间，但其终将到来却是不以人的意志为转移的趋势。 ? ??? 下一代干线光纤的闪光点 光纤作为传输媒质，为光传输提供了巨大而廉价的可用带宽，在光传送网的发展中起着重要作用。特别是光缆的寿命高达20年，一次敷设后就很难再动，因此光纤参数的设计必须要有前瞻性，充分考虑设备和系统技术的发展趋势。下一代电信网需要支持更大容量、更长距离和更宽频谱范围的传输，因而开发敷设下一代光纤已成为历史的必然。些情况下可能高达6dB,是一种能有效扩展传输距离和适合40Gb/s速率的调制新技术。1993至1995年分别出现了以真波光纤和leaf光纤为代表的G.655光纤，并获得了大规模网络应用。包括笔者在内的多数人在一段时间内认为似乎光纤的研究已经到头了，现在看起来并不是这样。随着速率提高到40GB/s以及超长传输距离的实施，特别是复用波长数的继续增加，传统G.655光纤的弱点已经开始显露。例如低色散斜率光纤的零色散点仍然太高，接近S波段的低端，不利于开放S波段;而大有效面积光纤的高色散斜率和相对色散斜率、高零色散点和过大的有效面积对超高速超大容量系统的进一步发展更加不利。因此为了适应下一代光网络发展的需要，光纤参数的继续优化十分必要。目前在干线光纤上有这样几个主要发展趋势： 第一，色散斜率需要进一步降低，以保证低端和高端的色散差不至于过大。笔者一直认为色散斜率一定要小，因为过去只顾C波段，斜率高一点儿无所谓。现在要扩展到L波段乃至S波段，这个问题就严重了，这方面对大有效面积光纤很不利，其色散斜率高达0.085ps/(nm2·km)。 第二，色散值需要继续适当增加，以保证足以压制FWM影响,实现更窄的波长间隔。最早的时候G.652光纤的色散值为17ps/(nm·km)，大家认为太大，需要减少，后来出现了G.655光纤。但开始走向另一极端，起初有些光纤的色散值仅1 ps/(nm·km)、2ps/(nm·km)，后来增加到4ps/(nm·km)，目前看来都不够，现在是160个波长，如果到了300个乃至1000个波长时怎么办?所以色散值一定要足够大，但又不能回到原来G.652的值，所以笔者看6～8 ps/(nm·km)是比较合适的，已足以压抑四波混频的影响，可以适应越来越多的波长通路数需求。 第三，光纤的相对色散斜率需要继续减小，以便简化色散斜率补偿，改进补偿效率，降低系统成本。这方面大有效面积光纤的弱点很明显，很难补偿。 第四，光纤有效面积需要最佳化，从而兼顾非线性损伤和喇曼增益。前几年多数人认为大有效面积是好事，而笔者始终认为有效面积要适度，低色散斜率更重要。现在由于喇曼放大器的出现和发展，大有效面积光纤的喇曼增益低的弱点更加明显，业界已经将重点转向低色散斜率，而有效面积趋向比较适中的55～65mm2; 第五，零色散点需要继续向短波长方向移动(如1400nm附近)，避开S波段，以保证S波段以及C波段和L波段的正常工作。这方面不仅传统低色散斜率光纤和大有效面积光纤的零色散点均太高，即便是特锐Ultra光纤也太高。 ??? 上述五个主要发展方向已经导致ITU-T开发新一代的G.655.B光纤标准，目前已经有特锐Ultra光纤、真波Reach光纤和PureGuide光纤问世，其他厂家也都在努力研制这类新一代的干线光纤。可以相信，这种新一代的光纤将逐渐成为未来的主导干线光纤。 对光纤通信而言，超高速度、超大容量和超长距离传输一直是人们追求的目标，而全光网络也是人们不懈追求的梦想。 　　1.超大容量、超长距离传输技术 　　波分复用技术极大地提高了光纤传输系统的传输容量，在未来跨海光传输系统中有很大的应用前景，这几年波分复用系统发展也确实十分迅猛。目前，1.6Tbit/s的WDM系统已经大量商用，同时，全光传输距离也在大幅度扩展。提高传输容量的另一种途径是采用光时分复用（OTDM）技术，与WDM