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单层SbAs和BiSb的表面修饰调控-物理学报
单层SbAs和BiSb的表面修饰调控
袁俊辉 谢晴兴 余念念 王嘉赋
EffectsofsurfaceregulationonmonolayersSbAsandBiSb
YuanJun-Hui XieQing-Xing YuNian-Nian WangJia-Fu
引用信息Citation: ActaPhysicaSinica, ,217101(2016) DOI: 10.7498/aps.65.217101
在线阅读Viewonline: /10.7498/aps.65.217101
当期内容Viewtableofcontents: /CN/Y2016/V65/I21
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物理学报 Acta Phys. Sin. Vol. 65, No. 21 (2016) 217101
单层SbAs和BiSb 的表面修饰调控
袁俊辉 谢晴兴 余念念 王嘉赋
(武汉理工大学理学院, 武汉 430070)
( 2016 年5 月28 日收到; 2016 年7 月14 日收到修改稿)
基于密度泛函理论的第一性原理计算, 研究了V 族二维层状材料SbAs 和BiSb 在全氢化和全氟化后体系
的晶体结构、稳定性和电子结构. 计算结果表明, 全氢化后SbAs 和BiSb 由buckled 结构转变为准平面结构,
而全氟化后则转变为low-buckled 结构. 同时, 本征、全氢化和全氟化的SbAs 和BiSb 均具有很好的稳定性, 具
备实验合成的可能性. 电子结构的分析表明, 全氢化和全氟化后SbAs 和BiSb 均由宽带隙半导体转变为窄带
隙的直隙半导体, 且其能带结构仍具有很好的线性色散. 通过对准平面和low-buckled 结构SbAs 和BiSb 电子
结构的进一步分析, 揭示了全氢化和全氟化后体系能带变化的原因. 在h-BN 衬底上的计算结果显示, 由于两
者间的弱耦合作用, 使得全氢化和全氟化SbAs 的直隙半导体特征得以保留, 表明其在未来光电子设备等领域
中具有广泛的应用前
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