成像干涉光刻技术与离轴照明光刻技术的对比分析Journalof.PDF

第 26 卷 　第 7 期 半 　导 　体 　学 　报 Vol . 26 　No . 7 2005 年 7 月 C H IN ESE J OU RNAL O F SEM ICONDU C TOR S J uly ,2005 成像干涉光刻技术与离轴照明光刻 技术的对比分析 1 ,2 1 1 刘 　娟 　张 　锦 　冯伯儒 ( 1 中国科学院光电技术研究所 微细加工光学技术国家重点实验室 , 成都 　6 10209) (2 中国科学院研究生院 , 北京 　100039) ( )