表面电浆子理论与模拟-国立清华大学工程与系统科学系暨研究所.pdfVIP

表面電漿子理論與模擬 文/吳民耀、劉威志 摘要 表面電漿子的研究已有百年歷史，近來由於表面電漿子的特性可利用成為進入奈米光學領域的重要途徑，而受到研究 人員矚目。本文介紹表面電漿子的基本原理及模擬計算的成果，詳述金屬面及金屬奈米粒子的表面電漿子模式，以及表面 電漿子在奈米光學的應用。 一、表面電漿子 plasma oscillation ），若將此振盪行為量子化，我們稱 表面電漿子（surface plasmon ）是存於金屬與介 電質介面上的表面電磁波[1,2] 。在二十世紀初，就已 經在金屬光柵的反射光譜中觀察到表面電漿子相關 的光學現象。表面電漿子共振的高靈敏度，也被廣泛 利用於化學、生物感測上[3] 。表面電漿子模式會侷限 在金屬表面附近，形成高度增強的近場（ highly enhanced near-field ）。這表面增強的特性已經被利用 於各類表面光譜的測量上，例如表面增強拉曼光譜學 （Surface-enhanced spectroscopy, SERS ）[4] 。長久以 來，光學元件受限於光的繞涉極限（optical diffraction limit ），在光學元件的製成上一直未能達到極小、極 圖一：電荷密度在金屬表面上發生集體式電偶極振盪電場 高密度、極高效率的目的。最近，人們對奈米尺度下 分量的示意圖。z 0是金屬的部分，z 0是介電材料或是 真空的部分。ε ，ε 分別代表介電物質和金屬的介電係 的光學現象產生了極大的興趣，引發了對奈米光學 1 2 數。電場離開介面會呈指數函數衰減的情況。電場在金屬 （nano-optics ）與奈米光子學（nanophotonics ）的熱 內部衰減率要比在介電物質來得大。 烈研究[5,6,7] 。表面電漿子模式的局域特性正好可以 利用來突破光的繞涉極限，希望能藉此發展出各式各 為表面電漿量子波（surface plasmon polariton ）。金屬 樣奈米尺度的光學裝置，各類研究於今方興未艾 平面上的表面電漿子以表面波(surface wave)的形式 [2,8,9,10] 。本文介紹表面電漿子的基本原理，推導表 在金屬與介電物質形成的介面上傳播。我們在此詳細 面電漿子的共振條件及闡述電腦模擬計算的成果，特 推導金屬與介電物質平坦介面上的表面電漿子的模 別著重在金屬面及金屬奈米粒子的表面電漿子模式 式。先考慮一表面波分別以 TM 和 TE 兩種不同的偏 的特性，以及表面電漿子在奈米光學的各種應用。 振方式在介面上傳播。TE 偏振是指電場方向垂直於 圖一的 xz 平面，而 TM 偏振是指磁場方向垂直於圖 二、金屬平面上的表面電漿子模式 一的 xz 平面。介面的位置是在 z = 0 時，則 TM 和 在金屬與介電物質（或是真空）之間形成的介面 TE 這兩種表面波的電場和磁場的波函數分別可以表 示如下： 附近，金屬的電荷密度發生集體式電偶極振盪的現象 （如圖一所示），我們稱為表面電漿振盪（surface 物理雙月刊（廿八卷二期）2006 年4 月 486