磁控反应溅射AlN薄膜制备工艺及性能的研究.pdfVIP

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  • 2017-09-03 发布于江苏
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磁控反应溅射AlN薄膜制备工艺及性能的研究.pdf

第1章绪论 {.{研究蓄景 随着航空航天及红外技术的高速发展,红外光学元件的服役环境翻益苛刻, 如超音速飞机、空一空导弹等高速飞行器的前视红外密豳、头幕将承受高温、离 压、热冲击、大气中的游离灰尘和冰雹等固体粒子以及雨滴攮击的严峻考验, 故对数外窗口、头罩材料的物理性能和化学憾能提出了越来鹧商的要求【l,2l。红 外窗口、头罩怒红外系统不可缺少的部件,其功能是保护热成像系统农高速(遮 度常逸3~4玛赫或更高)飞行中以及在各种严酷的环境条件下正常工作[31。闲 此,级外窗口材料除了必须具有高红外透过率、低吸收系数等优皂特性外,述 必须具有高机械强度、耐磨损、抗风沙雨蚀、抗化学腐蚀等髓能,.鼠在高温、 低温及辐射彳乍月等各种苛刻条件下,熬光学、物理和化学性熊保持良好。 镑(ZnSe)相比,金剐石具有一系列优异、独特的性能,如从紫外到远红外均 有良好的透过率,硬度在已知物质中黢高,热学率高(是铜的5倍),热膨胀系 数小,热冲击性好,瓣摩擦性能好,化学性能稳定,8%抗酸、碱的腐蚀等等[41。 这些性质决定了金刚石比其它红外材料具有黧广阔的应用前景,一方面它可以 终为其它红外崧口的保护涂层,另一方面可以传为独立的头肇或窗翻使用,箍 后者熨有吸引力。随着化学气相沉积(CvD)金刚石技术的快速发展,现已

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