7第三章测量装置介绍.doc

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7第三章测量装置介绍

第三章 测量装置介绍 3.1 光栅测量原理 3.1.1光栅原理的发现 莫尔条纹 是18世纪法国研究人员莫尔先生首先发现的一种光学现象。从技术角度上讲,莫尔条纹是两条线或两个物体之间以恒定的角度和频率发生干涉的视觉结果,当人眼无法分辨这两条线或两个物体时,只能看到干涉的花纹,这种光学现象就是莫尔条纹。莫尔条纹对于半色调丝网印刷是一个潜在的问题。所谓半色调印刷,就是将连续调原稿通过照像或其他方法分解成大小不同的网点来表现层次的方法。暗调用印刷较大的网点来表现,亮调用印刷较小的网点来表现,同一色的网点之间,特别是多色印刷或四色印刷各色版网点之间会发生干涉形成莫尔条纹。网点之间形成的莫尔条纹是所有层次丝网印刷的共同问题。网点与丝网也能形成另一种形式的莫尔条纹,这种莫尔条纹在丝网上的分布能够产生难以辨认的和原稿明显不同的图莫尔条纹能从三个方面产生:1. 双色或多色网点之间的干涉;2. 各色网点与丝网网丝之间的干涉;?3. 作为附加的因素,由于承印物体本身的特性而发生的干涉。使用莫尔条纹防护系统的目的就在于根据你选定的丝网目数、加网线数、印刷色数和加网角度来预测莫尔条纹。将等间隔光栅平即使是线性平θ很小,因此叠纹的间距θ可视同无穷大,但无θ为。 传统XYZ三轴光学尺,Z轴前端的各种探头接触在工件的常: 图3-1穿透式光學尺 反射型(与本设计应用不符,故不介绍。) 3.1.4光学尺输出讯号之原理 光学尺之主副尺是A,B二个,则可进A盖B的电迅速变化,50 CM/SEC之移动速2.5 x103 Hz,这样的光侦测器价格并μm,经信号四分割电μm叠纹(Moiré fringe)的产生系由grating)重叠时产生。其产生之方式有二: 1.光栅平pitch)2.光栅节距相等,但.2 光栅应用的现状及发展 3.2.1光栅发展现状 光栅莫尔条纹技术是一门既古老又现代的测量技术。对莫尔条纹的研究最早可以追溯到十九世纪末期,二十世纪五十年代以后开始应用于实际测量,并逐步对莫尔条纹的形成机理开展了广泛的研究,至今已形成了三种主要的理论:(1)基于阴影成像原理:认为由条纹构成的新的轨迹可表示莫尔条纹的光强分布;(2)基于衍射干涉原理:认为由条纹构成的新的光强分布可按衍射波之间的干涉结果来描述;(3)基于傅立叶变换原理:认为形成的莫尔条纹是由低于光栅频率项所组成。这三种理论都可以较完满地解释莫尔条纹现象。一般来说,第三种理论是一种广义的解释。光栅条纹较疏的可直接用遮光阴影原理来解释,而光栅条纹较密的用衍射干涉原理来解释则更为恰当。上世纪六、七十年代,由于光栅制造工艺的改进以及电子技术的发展,能够批量提供廉价的光栅产品,并出现了电子细分技术,使光栅的分辨率和精度能够适应现代计量的要求,莫尔条纹技术得到迅速推广应用,且出现了许多崭新的光栅莫尔条纹测量技术。传统的四场扫描光栅系统(成都工具研究所开发的光栅传感器均属这种系统)由于受污染影响较大,已逐渐被准单场扫描和单场扫描系统所取。准单场扫描系统的指示光栅由两个相位不同的光栅组成,标尺光栅(主光栅)反射后由四个光电池接收,得到相位差为90°的4个莫尔条纹信号;单场扫描系统采用栅距与主光栅略有不同的一个大光栅组成指示光栅,用栅状光电器件接收信号。这两种结构中,由于都使用一个扫描场,光栅上的局部污染对各组信号的光强影响大致相同,大幅度减少了因污染造成的测量误差。这二种扫描系统都属于成像扫描原理,是目前广泛应用的光栅系统。1987年,Haidenhain公司推出了一种干涉扫描系统,该系统中,标尺光栅和指示光栅均采用相位光栅,通过合理设计光栅线纹高度方向的形状来控制衍射的级次和相位,莫尔条纹由输入光两次衍射后的干涉光形成。干涉扫描系统是一种高精度、高分辨率的光栅系统,如Haidenhain的LIP382,测量长度270mm,分辨率1nm,精度0.1μm。为保证形成莫尔条纹的质量,避免阴影与衍射并存,莫尔条纹系统采用的光栅栅距明显向两端(疏或密)发展。在成像扫描系统中,认为光线完全是直线传播的,符合几何成像原理,采用的光栅栅距一般大于20μm;而在干涉扫描系统中,系统完全处于衍射、干涉状态,使用的光栅栅距一般小于8μm。由于干涉扫描系统采用了远心成像和Fraunhofer衍射系统,使光栅副能够工作在大间距状态(甚至接近1mm),且间距的变化对信号幅值的影响很小,调整系统时,完全不必像过去那样去寻找Frensnel焦面,这对于实际测量是极其有利的。为适应数控机床的需要,绝对式光栅正成为发展趋势。绝对式光栅是在增量光栅上设置绝对轨,在绝对轨上设计了用不同距离编码的一系列零位光栅,使用时通过探测相邻零位光栅的距离来确定绝对位置,与绝对轨配合使用的EnDat双向数据接口除可判断绝对位置外,当光栅出现故障时还能即时向数控机床发出报

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