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多晶硅业绩工艺及阀特产品的特点
上海阀特在多晶硅及有机硅行业应用的业绩
陕西天宏硅材料有限责任公司 公用工程水处理工序
V8300 DN900 PN1.0 3台
V8300 DN1000 PN1.0 4台
V8300 DN800 PN1.0 4台
V8300 DN800 PN1.0 4台
2)江西赛维LDK太阳能多晶硅有限公司
V8300 DN300 PN2.0 5台
四川乐山乐电天威硅业有限公司 年产3000吨多晶硅项目
三氯氢硅还原工序(以下阀门都属于标准的常规产品,应用工况的介质都是冷冻水给水、循环水、水蒸气)。
V1000 ANSI150LB 28台
V8300 ANSI150LB 16台
4)山东金岭化学有限公司 120KT/a有机硅项目
单体储罐区及泵棚工序
V1000 130台
氯甲烷压缩工序
V1000 129台
V4000 14台
V3000 5台 其中有3台DN450波纹管延伸型
V8300 11台
世界上主要的几种多晶硅生产工艺
1改良西门子法——闭环式三氯氢硅氢还原法改良西门子法是用氯和氢合成氯化氢(或外购氯化氢),氯化氢和工业硅粉在一定的温度下合成三氯氢硅,然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯,提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行CVD反应生产高纯多晶硅。国内外现有的多晶硅厂绝大部分采用此法生产电子级与太阳能级多晶硅。2硅烷法——硅烷热分解法硅烷(SiH4)是以四氯化硅氢化法、硅合金分解法、氢化物还原法、硅的直接氢化法等方法制取。然后将制得的硅烷气提纯后在热分解炉生产纯度较高的棒状多晶硅。以前只有日本小松掌握此技术,由于发生过严重的爆炸事故后,没有继续扩大生产。但美国Asimi和SGS公司仍采用硅烷气热分解生产纯度较高的电子级多晶硅产品。3流化床法以四氯化硅、氢气、氯化氢和工业硅为原料在流化床内(沸腾床)高温高压下生成三氯氢硅,将三氯氢硅再进一步歧化加氢反应生成二氯二氢硅,继而生成硅烷气。制得的硅烷气通入加有小颗粒硅粉的流化床反应炉内进行连续热分解反应,生成粒状多晶硅产品。因为在流化床反应炉内参与反应的硅表面积大,生产效率高,电耗低与成本低,适用于大规模生产太阳能级多晶硅。唯一的缺点是安全性差,危险性大。其次是产品纯度不高,但基本能满足太阳能电池生产的使用。此法是美国联合碳化合物公司早年研究的工艺技术。目前世界上只有美国MEMC公司采用此法生产粒状多晶硅。此法比较适合生产价廉的太阳能级多晶硅。4太阳能级多晶硅新工艺技术除了上述改良西门子法、硅烷热分解法、流化床反应炉法三种方法生产电子级与太阳能级多晶硅以外,还涌现出几种专门生产太阳能级多晶硅新工艺技术。1)冶金法生产太阳能级多晶硅据资料报导[1]日本川崎制铁公司采用冶金法制得的多晶硅已在世界上最大的太阳能电池厂(SHARP公司)应用,现已形成800吨/年的生产能力,全量供给SHARP公司。主要工艺是:选择纯度较好的工业硅(即冶金硅)进行水平区熔单向凝固成硅锭,去除硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分后,进行粗粉碎与清洗,在等离子体融解炉中去除硼杂质,再进行第二次水平区熔单向凝固成硅锭,去除第二次区熔硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分,经粗粉碎与清洗后,在电子束融解炉中去除磷和碳杂质,直接生成太阳能级多晶硅。2)气液沉积法生产粒状太阳能级多晶硅据资料报导[1]以日本Tokuyama公司为代表,目前10吨试验线在运行,200吨半商业化规模生产线在2005-2006年间投入试运行。主要工艺是:将反应器中的石墨管的温度升高到1500℃,流体三氯氢硅和氢气从石墨管的上部注入,在石墨管内壁1500℃高温处反应生成液体状硅,然后滴入底部,温度回升变成固体粒状的太阳能级多晶硅。3)重掺硅废料提纯法生产太阳能级多晶硅据美国Crystal Systems资料报导[1],美国通过对重掺单晶硅生产过程中产生的硅废料提纯后,可以用作太阳能电池生产用的多晶硅,最终成本价可望控制在20美元/Kg以下。
国内通行的多晶硅生产工艺
改良西门子法,三氯[wiki]氢[/wiki]硅在纯H2的还原条件下,在1050的硅芯发热体表面上沉积、生长[wiki]多晶硅[/wiki]。该工艺目前是国内外成熟、稳定、安全、可靠、产品质量稳定的多晶硅生产工艺。高纯氢气和精馏提纯的高纯三氯氢硅按适宜的摩尔配比进入还原炉,在硅芯发热体表面上沉积,生长多晶硅,得到产品。还原炉尾气经干法回收得到三氯氢硅和四氯化硅混合液、氯化氢气体以及氢气。分离的氯化氢经降膜吸收器吸收成为副产品盐酸。降膜吸收后的尾气经喷淋水洗塔水洗后达标排空。氢气返回还原炉生产多晶硅。西门子工艺每生产1t多晶硅产品将产生近14t的副产物SiCl4,即年产1
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