紫外线照射下砷在钛柱撑蒙脱土上吸附机理的的分析研究.pdfVIP

紫外线照射下砷在钛柱撑蒙脱土上吸附机理的的分析研究.pdf

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中文摘要 砷是一种毒性较大的,具有强烈致癌作用的环境污染物,长期暴露于砷含量 较高的环境中对人们的身体健康有致命的影响。并且随着世界可用淡水资源的减 少,多个国家饮用水中砷含量超标的问题已经日益突出。对于吸附过程及吸附机 制的研究有助于高效吸附材料的开发,也有利于处理条件的最优化。目前,对于 砷酸盐等阴离子在天然矿物、沉积物和土壤等界面上的吸附行为研究是国际上对 于吸附材料机理研究的热点。 本论文开展了紫外线照射下本实验组自行开发的吸附材料——钛柱撑蒙脱 土对吸附水中三价砷和五价砷过程促进的具体作用机理的研究。考察了不同的紫 外光照射情况对三价砷和五价砷吸附机理的影响。实验结果表明:不论是避光条 件还是紫外光照射时,材料均可以在短时间内有效地去除砷元素,吸附动力学曲 线符合拟二阶方程表明吸附过程存在化学吸附。吸附过程中五价砷可以更快的达 到吸附平衡,开始的时候三价砷的吸附速率较慢,考虑原因可能是因为在三价砷 吸附过程中,有一个氧化的过程是反应的速率控制步骤,但最终的材料对于三价 砷的吸附容量较大。 运用IR、xPS、EPR等精细结构分析仪器分析了不同紫外光照射情况下材料 进行吸附反应之后其内部微观结构的变化。IR图谱分析得到吸附在柱撑蒙脱土 材料的层间和材料表面形成了As.O键,说明有小部分砷元素确实以化学键的形 式被吸附到了材料上。XPS分析说明:不论是在三价砷和五价砷与材料结合前后, 还是在不同的紫外光照射情况下吸附,Ti元素的结合能均没有太大的变化,可以 推测在吸附的时候,三价砷和五价砷并没有直接和材料层间的Ti元素成键。EPR 分析可知原因可能是材料中的二氧化钛在紫外线照射下产生电子空穴,但是这种 处于活性状态的电子空穴对能量容易衰减,在短时间内其反应活性即可衰减到照 射前水平。n02上产生的电子空穴对会转移到蒙脱土层间处于近斜方对称的结构 铁及附于蒙脱石晶体表面的某种超微粒富铁相中的Fe2+,Fe3+上,使其处于被激 发的活性状态,使其更容易与砷元素作用结合,进而促使砷元素在材料上被吸附。 关键词: 钛柱撑蒙脱土砷紫外线吸附机理 ABSTRACT akindof with Arsenicis environmental strongtoxicityand鲫rong pollu诅nts be to arseniccontentin、·the ea’cct, long·timeexposurcdhi曲 carcinogenic induce health theworld’saVailablef.reshwater environmentwill people’s problem.As leVelsofarsenicin is countries’ ofexcessiVe resourceslimited, many problem moreandmore waterhasbecome seriously.Theadsorptionprocess卸d drinking to ofe衢cient mechanismis akind abso印tion adso币tion ve叫helpfhldeVelop it’salso treatInentconditions.At materials,卸dhelpmltooptimize presem,thestudy ofthe mechanismof

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