金属离子印迹聚合物（膜）的制备及其吸附性能的分析研究.pdfVIP

摘要 低含量待测分析物的检测通常需要依靠合适的分离／预富集过程。 基于分子识别的分离技术，因其对目标分子具有较高的吸附选择性而 在许多领域倍受关注。分子印迹技术(MolecularImprinting 识别性能的聚合物技术，在分离提纯、免疫检测、生物模拟和痕量分 析领域展现出广阔的应用前景。本文将分子印迹技术应用到金属聚合 物的制备上，采用铜离子为印迹离子，分别制备了铜离子印迹聚合物 及以PVDF膜为支撑膜的铜离子印迹聚合物膜，并研究了其分子识别 性能及吸附、渗透性能。论文包括以下四个方面： 1．论文首先对MIT的基本原理、分子印迹聚合物和金属离子印迹 聚合物的制备和应用进行了较为全面的综述，概述了金属离子印迹聚 合物领域的相关研究进展。 2．选用铜离子作为印迹离子，甲基丙烯酸，丙烯酰胺和N，N_亚甲 基双丙烯酰胺为配合功能单体，EGDMA和AIBN分别用作交联剂和引 发剂，在充氮的环境下热引发合成聚合物。合成的聚合物中的铜离子 用1：l的HCI和EDTA来洗脱。结果表明铜离子印迹聚合物相对于 空白聚合物而言，对铜离子有更高的吸附性能，铜离子印迹聚合物对 铜离子的吸附容量为42．2mg·g-1，空白聚合物的吸附容量为18．2 mg·g一。另外，在其它金属离子存在的情况下，该聚合物对铜离子有 了铜离子印迹聚合物的吸附动力学过程和等温吸附曲线，实验结果显 示，其吸附过程与Langmuir方程相吻合。 3．选用铜离子作为印迹离子，EGDMA和AIBN分别用作交联剂和引 发剂，同时选用两种功能单体与印迹金属离子配合生成三元配合物。 合成的聚合物中的铜离子用l：l的HCI和EDTA来洗脱。对洗脱后 的聚合物做了扫描电镜和红外光谱分析，同时研究了其在不同条件下 对金属离子的吸附性能。实验结果显示，该聚合物对铜离子有较好的 选择吸附性。 4．采用分子印迹技术紫外光引发聚合的方法制备了带支撑膜的铜 离子印迹聚合膜。用扫描电镜观察了膜的表亟形态。膜渗透实验表明， 通过对不同阳离子(如锌离子、钙离子等)的比较看出，此印迹膜对 铜离子有较好的选择渗透性。分别考察了不同支撑膜、致孔剂和功能 单体对膜结构及其渗透性能的影响，以及pH值、阴离子以及阳离子 对膜渗透性能的的影响。结果表明：采用PVDF膜为支撑膜，乙酸铜 为印迹离子合成的铜离子印迹膜，在pH值为l左右，阴离子为乙酸 根离子时，对铜离子有较好的选择渗透性。 关键词分子印迹技术，金属离子印迹聚合物，固相萃取，印迹膜， 铜离子 玎 ABSTRACT Thedeterminationoflowlevels relies onasuitable analytesgenerally Molecular separation／pre—concentrationprocess． havereceivedmuchattentioninvarious separationtechniques fields becauseoftheir for hi曲selectivitytarget imprinting IT)is asa technique(Mbecomingincreasinglyrecognized of thatconmin powerfultechnique synthetic preparing polymers tailor-made sidesforcertain hasa recognition