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【2017年整理】光学光刻中的离轴照明技术
《激光杂志》 年第 卷第 期 （ ）
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·实验技术与装置·
光学光刻中的离轴照明技术
郭立萍，黄惠杰，王向朝
（中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 !#$ ）
提要：本文讨论了光学光刻中的离轴照明技术。主要从改善光刻分辨率、增大焦深、提高空间像对比度等方面对离轴照
明与传统照明作了比较，并用%’()*+ 仿真软件进行了模拟分析。研究表明，离轴照明是一种很有效的光刻分辨率增强技术。
关键词：光学光刻；离轴照明；分辨率；焦深； 仿真
%’()*+
中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ）
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工艺因子 $ 、提高工艺因子 。光刻分辨率增强技术主要
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9 引言
有离轴照明技术、移相掩模、光学邻近效应校正以及先进光
为了满足超大规模集成电路特征尺寸不断缩小的要求， 刻工艺技术。离轴照明技术在不
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