基底温度对脉冲激光沉积WS薄膜组织结构和摩擦学性能-摩擦学学报.PDF

第 ３２卷　第６期 摩 擦 学 学 报 Ｖｏｌ３２　Ｎｏ６ ２０１２年 １１月 Ｔｒｉｂｏｌｏｇｙ Ｎｏｖ，２０１２ 基底温度对脉冲激光沉积ＷＳ 薄膜 ｘ 组织结构和摩擦学性能的影响 １ １ １ １ ２ 张　继 ，郑晓华 ，杨芳儿 ，寇云峰 ，宋仁国 （１．浙江工业大学 机械工程学院，浙江 杭州　３１００１４； ２．常州大学 材料科学与工程学院，江苏 常州　２１３１６４） 摘　要：采用脉冲激光沉积法（ＰＬＤ）在不同温度单晶硅基底上制备了ＷＳ固体润滑薄膜．利用扫描电子显微镜 ｘ （ＳＥＭ）、Ｘ射线能谱仪（ＥＤＳ）、Ｘ射线衍射仪（ＸＲＤ）对薄膜的成分、形貌和微观结构进行了分析，采用球－盘式磨损 试验机测试了薄膜在大气环境下（相对湿度５０％～６０％）的摩擦学特性．结果表明：室温下所获得的薄膜为微晶结 构；在ＲＴ～３００℃范围内，随着温度的升高，薄膜表面趋于光滑、致密，且形成晶态ＷＳ的趋势逐渐增大，薄膜与基 ｘ 底间的结合力增大，但薄膜中Ｓ和Ｗ的含量之比（Ｓ／Ｗ 比）从 １．８４逐步下降到 １．４９．薄膜的摩擦系数在 ＲＴ～ ２００℃范围内与其Ｓ／Ｗ比呈反比关系，在３００℃条件下，薄膜中形成了大量的ＷＳ晶体，摩擦系数最低且耐磨性能 ２ 也最好． 关键词：薄膜；ＷＳ；脉冲激光沉积；基底温度；固体润滑 ２ 中图分类号：ＴＱ１７４；ＴＨ１１７．３ 文献标志码：Ａ 文章编号：１００４－０５９５（２０１２）０６－０６１２－０７ ＥｆｆｅｃｔｓｏｆＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎＴｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｏｎＭｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄ ＴｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌＰｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆＰｕｌｓｅｄＬａｓｅｒＤｅｐｏｓｉｔｅｄＷＳ Ｆｉｌｍｓ ｘ １ １ １ １ ２ ＺＨＡＮＧＪｉ，ＺＨＥＮＧＸｉａｏ－ｈｕａ ，ＹＡＮＧＦａｎｇ－ｅｒ，ＫＯＵＹｕｎ－ｆｅｎｇ，ＳＯＮＧＲｅｎ－ｇｕｏ （１．ＣｏｌｌｅｇｅｏｆＭｅｃｈａｎｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＺｈｅｊｉａｎｇＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｈａｎｇｚｈｏｕ３１００１４，Ｃｈｉｎａ ２．ＳｃｈｏｏｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＣｈａｎｇｚｈｏｕＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｃｈａｎｇｚｈｏｕ２１３１６４，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＷＳｓｏｌｉｄｌｕｂｒｉｃａｔｉｏｎｆｉｌｍｓｗｅｒｅｄｅｐｏｓｉｔｅｄｏｎｍｏｎｏｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅｓｉｌｉｃｏｎｓｕｂｓｔｒａｔｅｓａｔｖａｒｉｏｕｓｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｓｂｙｐｕｌｓｅｄ