紫外-真空紫外波段的AlMgF2膜-光学精密工程.PDFVIP

第9 卷　第2 期　 光学　精密工程 Vol. 9, No. 2 2 0 0 1 年 4 月 O P T IC S AN D PR EC IS ION EN G IN EER IN G A p r. , 200 1 ( ) 文章编号　1004924X 200 1 020 16504 紫外- 真空紫外波段的A l+ M gF2 膜 刘　颖, 李福田 ( 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春　130022) 摘要: A l+ M gF 2 膜是真空紫外波段常用的一种反射膜。根据薄膜光学的电磁场理论计算了正入射条件 下A l+ M gF 2 膜在真空紫外波段的反射率随氟化镁膜厚度的变化规律。研究了A l+ M gF 2 膜的制备工 艺, 利用 紫外真空紫外反射率计测得 + 膜的反射率在 150 ～ 340 的波段 Seya N am iok a A l M gF 2 nm nm 上高于 80% 。 + 膜制备一年后, 其真空紫外波段的反射率未有明显变化。 A l M gF 2 关　键　词: 反射膜; 紫外; 真空紫外; 反射率 中图分类号: O 484. 4 1　　文献标识码: A 1　引　　言 2　理论计算 　　随着等离子体物理、受控核聚变等领域研究 　　首先根据光学薄膜的电磁场理论推导出A l 工作的发展, 迫切需要制作在紫外真空紫外波段 + M gF 2 膜反射系数 r 。与一般的膜层不同, 氟化 具有较高反射能力的反射元件。铝膜在紫外真空 镁膜对真空紫外辐射具有一定的吸收作用, 为了 紫外波段具有较高的反射能力并且与玻璃基底的 准确估算氟化镁膜厚度对整个A l+ M gF 2 膜反射 附着性较好, 因此常被用作这一波段的反射涂 率的影响, 引入氟化镁膜的复折射率N 1 , 且N 1 = [ 1 ] n - ik , n 和k 分别是氟化镁膜的折射率和消光 层 。但是, 铝膜在大气中极易被氧化, 在铝膜表 1 1 1 1 面形成的氧化膜 膜对真空紫外辐射的吸 [3 ] A l2O 3 系数。根据光学薄膜的电磁场理论 推导出单层 收能力较强, 从而降低了铝膜的反射能力。为了防 氟化镁膜的特征矩阵M 为 止或抑制铝膜的氧化, 提高膜层的反射率, 可以在 ei + e- i ei - e- i 铝膜表面蒸镀上厚度适当的一层或几层保护膜。 2 2N 1 M = i - i i - i ( 1) 在 120nm ～ 220nm 的波 段 范 围 内, 通 常选 用 N 1 (e - e ) e + e