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选通式象增强器的新型导电基底-光子学报
29 9 . 29 .9
Vol No
2000 9 ACTA PHOTONICA SINICASeptember 2000
*
李 佳 庞其昌 彭文达 李宏云 阎国安 高春建
( , 710068)
*
( , 710024)
本文介绍了采用光刻技术制备的 一 新型的导电基底, 它的面电阻≤10,透过率
约为89 . 在该基底上研制出的选通式象增强器,可实现选通时间在 级以上的高速选
ns
通,适用于微光、瞬时多通道高速光谱分析系统和高速摄影系统.
导电基底;光刻;选通; 象增强器
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收稿日期: 2000—01—20
29
862
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2
Fig.2Measurements design of metal mesh
D ,L ,
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