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氧分压对-膜结构与光学性质的影响
第 卷 第 期 膜 科 学 与 技 术
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年 月
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文章编号： （ ）
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氧分压对+,- 膜结构与光学性质的影响
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朱 凤 赵 坤 赵 夔 王莉芳 全胜文
（北京大学重离子物理研究所超导腔组，北京 ）
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摘 要：报道了用反应溅射法制备 膜的实验研究 详细研究了膜的沉积、膜结构及其光学
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性质，随溅射氧分压的变化 随氧分压由 $’ 增加到 $’ 时，晶体结构由金红石
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变到锐钛矿，氧分压超过 $’ 时趋向于无定形结构 与膜结构密切相关的折射率 随
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氧分压的增大由 变到 ，禁带宽度 则由大变小，然后再增大的变化（
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关键词：反应溅射； 薄膜；氧分压；折射率；禁带宽度
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中图分类号： ； 文献标识码：
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+,- 由于具有优异的光学性能和高稳定性，使 射过程通过一台 、 的直流稳流源控制，溅射
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得它在光学薄膜材料方面有着广泛的应用 制备 靶为半径 、厚度 的金属钛，靶与基底
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的方法很多，比如蒸镀法 、化学沉积法 、溶 的距离为 ，基底面积为
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胶 ) (7 每次溅射前，都预先在纯 气体中放电
凝胶 、 磁控和直流磁控溅射法 等 48 79,
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直流磁控反应溅射具有独特的优点：）使用金属 左右，以除去靶表面的氧化物，当观察到靶表面辉光
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