纳米氧化铈沉淀法合成及其分散性的分析研究.pdf

摘要 f纳米ce02因具有多方面功能特性而在氧敏材料、固体氧化物燃料电 池、、耐辐射玻璃、发光材料和汽车尾气净化等高科技领域得到广泛应用。 最新研究表明，纳米ceO：可用于集成电路芯片加工的化学机械抛光 的研磨粒子，具有平整质量更高、抛光速率更快、选择性更好的优点。≥人／ 少量表面活性剂，采用液相沉淀法合成了纳米Ce02，系统研究了合成过 程中反应时间、反应温度、搅拌速率、表面活性剂和热处理条件等影响因 素，并得出其优化工艺条件。将浓度为O．1mol／L的(NH4)2C03·H20溶液快 速倒入浓度为0．1mol／L并加有4．Og／L ce02具有成本较低、设备及操作过程简单、环境污染小，纯度高、粒子 单分散性好的特点，具有较好的工业化发展前景。 由于热处理过程对纳米颗粒的结构和性质有着重要影响。本文详细探 尺寸、晶格畸变程度、晶格常数和密度等的影响。结果表明：随焙烧温度 增加，Ce02晶粒尺寸与密度显著增大，晶格常数与晶格畸变程度减小； 粒尺寸随着焙烧时间延长增加，且开始时晶粒生长较快，后有减慢趋势， 同时其晶格常数增大，密度与晶格畸变程度减小；700℃时晶粒生长指数 主。 在CMP技术中纳米研磨粒子在液相介质中的充分分散是保证抛光质 量的前提，本文进一步研究了纳米Ce02在不同条件下水相体系中的润湿 性、表面电性及分散性。结果表明：溶液pH值对纳米Ce02的润湿性有 绝对值最大，Ce02等电点pH值约为6．7左右。超声波分散方式优于机械 内获得较好的分散效果。 关键词ce02，纳米粒子，晶粒，润湿，分散性 Ⅱ ABSTRACT Because 10tsof。functlonal have characters，Ce02 ofllavmg nanop甜icles inmefields as tolerallce widely ofhi曲technology，suchoxygen been印plied aIld resistant luminescentmaterials materials，SOFC，radiation glass， that automobilee妯1aust shows of gases．Recent Ce02 purification invest培ation caIlbeusedas to IC abrasiVe C~Ⅱ’sluHy nallopanicles polishchip．As siliconwafer dielectricin for andsilica layer panicles haVemore of and naIloparticlesadVantageshighersmoo‰