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密涂布工艺应用新进展.pdf

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测系大修精密涂布工艺应用新进展

精密涂布工艺应用新进展 谢宜风 (中国乐凯胶片集团公司, 河北 保定 071054) 摘 要:精密涂布工艺在 能性薄膜生产中起着重要作用。 当今材料工业的迅速发展, 对涂层提出更薄、 更均匀的要求。 特别象平板显示器 (FPD) 中所用的 能性光学薄膜, 如防反射膜、 防眩光膜等, 其涂层厚度 往往小于1μm。 另外, 锂电池电极的涂层则要求采用间歇式涂布方法来生产。 本文着重介绍了近年来微凹版涂 布和条缝涂布工艺在平板显示器、 有机发光二极管 (OLED)、 锂电池行业中应用的新进展。 关键词:精密涂布工艺;薄层涂布;微凹版涂布;条缝涂布 中图分类号:T Q574.4 文献标识码:A   文章编号:1009-5624- (2010)01-0028-10 工业虽已日趋衰微, 但挤压涂布和落帘涂布技术仍 1 引言 在轻工造纸, 膜材料加工, 包装材料等行业中得到 涂布工艺是改变和完善材料表面特性的重要加 了推广应用。 近年来, 平板显示产业以及一些新型光电子产 工工艺, 而随着科学技术的不断发展, 涂布工艺更 品, 得到了迅猛发展。 这些产品的涂层往往要求更 成为许多重要 能性材料研究开发所不可或缺的重 要工艺技术手段。特别是精密涂布工艺技术可满足 薄、 更均匀, 从而对精密涂布工艺技术又提出了新 的要求。 例如液晶显示器所用的防反射膜、 防眩光 某些涂层的特殊要求, 从而增加材料的附加值并扩 大其应用范围。 一次多层坡流挤压涂布和落帘涂布 膜的涂层厚度只有几十至 100nm 左右;而用于新 曾是精密涂布工艺技术的典型代表。正是多层坡流 型充电锂电池电极的涂层要求实现带状涂布或间歇 挤压涂布技术的开发和应用, 使彩色感光材料的多 块状涂布。 多层挤压涂布和落帘涂布显然已不能完 能层结构在性能上得以极大完善并实现工业大生 全满足这方面的要求。 有大量文献资料报导, 条缝 产。 可以说, 没有一次多层高速挤压涂布技术, 要 涂布和微凹版辊涂布工艺在这些领域得到了广泛的 实现多达10 余层而总厚度仅为20μm 左右的彩色 应用。这类光学膜涂层传统上采用真空蒸镀、 化学 胶卷工业化生产是不可想象的。 目前照相感光材料 沉积、 等离子聚合等方法, 这些方法是在真空条件 下将固态组分气化蒸发沉积在特定的基体上。 由于 收稿日期:2009-12-01 必须采取真空密闭操作环境, 难以实现低成本、 高 作者简介:谢宜风(1935-), 男, 上海人, 教授级高级工程师(已退休)。 效率的卷对卷式大规模生产。采用旋涂法虽也能得 到均匀的薄层涂布效果, 但受到涂布面积和涂布效 28 率的限制, 特别是其涂布液的利用率只有5%左 右, 造成巨大的浪费, 难以实现低成本的工业化生 产。 因此, 寻求新的精密涂布工艺技术, 适应低成 本、 高质量、 大规模生产, 以适应市场竞争需要是 必然的选择。如许多光电子产品中的透明电极导电 层———铟錫氧化物 (ITO )就一直采用溅射法制 备。而日立麦克赛尔公司于2008 年底宣布采用湿 [1] 法涂布工艺制成透明ITO 导电膜 。 该公司利用 其水热法制备氧化铁磁粉的经验, 制备了纳米级的 ITO 微粒子, 通过分散配制成ITO 涂布液, 再经 微凹版辊涂布工艺将ITO 涂布液涂布在PET 基材 上, 经干燥后就得到透明ITO 导电膜。而另一方 面, 采用有机导电高分子聚合物, 通过

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