第10章 真空与等离子技术.pdf

微细加工与微细加工与MEMSMEMS技术技术 第十章第十章第十章第十章 真空技术和等离子体真空技术和等离子体真空技术和等离子体真空技术和等离子体 微固学院 邓小川 xcdeng@g@uestc.edu.cn 电子科技大学 目 录 本章主要内容：  真空技术的基本原理  等离子体的产生与应用 本章知识要点：  掌握真空泵的种类和用途  掌握等离子体的产生机理和用途  了解直流与射频辉光放电过程  了解直流与射频辉光放电过程 Page 2 电子科技大学 1010.11 引言引言 Page 3 电子科技大学 10.1 引 言 真空和等离子体技术 前面讨论过的扩散前面讨论过的扩散、、氧化和光学光刻是在常压氧化和光学光刻是在常压 下进行的，而离子注入、非光学光刻以及后面要讨 论的许多工艺如干法刻蚀、物理淀积、化学汽相淀 积等则需要在真空室中进行，有的还要涉及到等离 子体和辉光放电的理论和技术。 Page 4 电子科技大学 10.1 引 言 真空的定义真空的定义：  物理学上的“真空”是指没有或者不计气体分子和原 子存在的物理空间，仅存在各种能量粒子的场空间；  另另一种是应用物理与技术所讨论的种是应用物理与技术所讨论的 ““真空真空””——低于低于 一个大气压力的稀薄气体的空间状态。  “真空”一词来自拉丁语“vacuum” ，意为“空虚”。 真空分为自然真空和人造真空真空分为自然真空和人造真空。 Page 5 电子科技大学 10.1 引 言  地球上，存在着自然状态的真空。地球大气层 4 May 2011 以外的宇宙真空以外的宇宙真空，，称为称为 “空间真空空间真空”．．它是典型它是典型 的“自然真空”。  各种真空各种真空泵去抽掉密闭容去抽掉密闭容器中的气体中的气体，以获得获得 “人为真空”；  使用现代排气方法获得的最低压力．也只能达 到到1010 -1212~1010-1313PPa，还远未达到绝对真空还远未达到绝对真空。 Page 6 电子科技大学 10.1 引 言 真空特点  压强低，分子稀薄，分子的平均自由程长