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CMOS电路中ESD保护结构的设计 1 引言
静电放电(ESD,Electrostatic Discharge)给电子器件环境会带来破坏性的后果。它是造成集成电路失效的主要原因之一。随着集成电路工艺不断发展,互补金属氧化物半导体(CMOS,ComplementaryMetal-Oxide Semiconductor)的特征尺寸不断缩小,金属氧化物半导体(MOS,Metal-Oxide Semiconductor)的栅氧厚度越来越薄,MOS管能承受的电流和电压也越来越小,因此要进一步优化电路的抗ESD性能,需要从全芯片ESD保护结构的设计来进行考虑。
2 ESD的测试方法
ESD模型常见的有三种,人体模型(HBM,Hu-man Body Model)、充电器件模型(CDM,Charge DeviceModel)和机器模型(MM,Machine Mode),其中以人体模型最为通行。一般的商用芯片,要求能够通过2kV静电电压的HBM检测。对于HBM放电,其电流可在几百纳秒内达到几安培,足以损坏芯片内部的电路。
进入芯片的静电可以通过任意一个引脚放电,测试时,任意两个引脚之间都应该进行放电测试,每次放电检测都有正负两种极性,所以对I/O引脚会进行以下六种测试:
1) PS模式:VSS接地,引脚施加正的ESD电压,对VSS放电,其余引脚悬空;
2) NS模式:VSS接地,引脚施加负的ESD电压,对VSS放电,其余引脚悬空;
3) PD模式:VDD接地,引脚施加正的ESD电压,对VDD放电,其余引脚悬空;
4) ND模式:VDD接地,引脚施加负的ESD电压,对VDD放电,其余引脚悬空;
5) 引脚对引脚正向模式:引脚施加正的ESD电压,其余所有I/O引脚一起接地,VDD和VSS引脚悬空;
6) 引脚对引脚反向模式:引脚施加负的:ESD电压,其余所有I/O引脚一起接地,VDD和VSS引脚悬空。
VDD引脚只需进行(1)(2)项测试
3 ESD保护原理
ESD保护电路的设计目的就是要避免上作电路成为ESD的放电通路而遭到损害,保证在任意两芯片引脚之间发生的ESD,都有适合的低阻旁路将ESD电流引入电源线。这个低阻旁路不但要能吸收ESD电流,还要能钳位工作电路的电压,防止工作电路由于电压过载而受损。这条电路通路还需要有很好的工作稳定性,能在ESD发生时陕速响应,而且还不能对芯片正常工作电路有影响。
4 CMOS电路ESD保护结构的设计
根据ESD的测试方法以及ESD保护电路的原理可知,在芯片中我们需要建立六种低阻ESD电流通路,它们分别是:
1) 引脚焊块(PAD)到VSS的低阻放电通路
2) VSS到PAD的低阻放电通路
3) PAD到VDD的低阻放电通路
4) VDD到PAD的低阻放电通路
5) PAD受到正向ESD放电时,PAD到PAD的通路
6) PAD受到负向ESD放电时,PAD到PAD的通路
7) VDD与VSS之间的电流通路。
大部分的ESD电流来自电路外部,(CMD模型除外,它是基于已带电的器件通过管脚与地接触时,发生对地放电引起器件失效而建立的),ESD保护电路一般设计在PAD旁,输入输出(I/O,Input/Out-put)电路内部。典型的I/O电路示意图如图2,它的工作电路由两部分组成:输出驱动(Output Driver)和输入接收器(Input Receiver)。ESD通过PAD导入芯片内部,因此I/O里所有与PAD直接相连的器件都需要建立与之平行的ESD低阻旁路,将ESD电流引入电压线,再由电压线分布到芯片各个管脚,降低ESD的影响。具体到I/O,就是与PAD相连的输出驱动和输入接收器。根据对ESD低阻放电通路的要求,上面六条通路必须保证在ESD发生时,形成与保护电路并行的低阻通路,旁路ESD电流,且能立即有效地钳位保护电路电压。而在这两部分正常上作时,不影响电路的正常工作。
图3是加入ESD电流通路的I/O电路,在图3所列的所有器件中,HBM模式下输出驱动上的NMOS管是最容易受损坏的。因此下面会对输出驱动中NMOS管的ESD低阻旁路给出比较详细的介绍。
●PS模式下PAD、VSS之间的ESD低阻旁路
每一个I/O引脚电路中都应建立一个PAD到VSS的ESD保护电路(图4)。
常用的ESD保护器件有电阻、二极管、双极性晶体管、MOS管、可控硅(SCR)等。由于MOS管与CMOS工艺兼容性好,我们常采用MOS管构造保护电路。
CMOS工艺条件下的NMOS管有一个横向寄生n-p-n(源极-p型衬底-漏极)晶体管,如图5(a)所示。这个寄生的晶体管开启时能吸收大量的电流。利用这一现象可在较小面积内设计出较高ESD耐压值的保护电路,其中最典型的器件结构就是栅极接地NMOS(GGNMOS,Gate Gr
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