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金属有机化学气相沉积法生长纯闪锌矿结构P型砷化镓纳米线
Vol. 32,No. 5 JournalofSemiconductors May2011
Growthofpurezinc blende p-type GaAs nanowiresbymetal-organicchemical
vapordeposition
Li Ran(李然) ,Huang Hui(黄辉) ,Ren Xiaomin(任晓敏) ,Guo Jingwei(郭经纬) ,
Liu Xiaolong(刘小龙) ,Huang Yongqing(黄永清) ,and Cai Shiwei(蔡世伟)
Key Laboratory of Information Photonics and Optical Communications, Ministry of Education, Beijing University of Posts
andTelecommunications,Beijing 100088, China
ElectronicsScience and TechnologyInstitute, Dalian University of Technology,Dalian116085,China
Abstract: Verticalp-typegalliumarsenide(GaAs)nanowireswithpurezincblendestructureweregrownonGaAs
(111)Bsubstratebymetal-organicchemicalvapordepositionviaaAu-catalystvapor-liquid-solidmechanism.The
p-typedopingwasinvestigatedbyadditionaldiethylzinc(DEZn).InthehighII/IIIratiorange(II/III9.1%),there
existsacriticallengthbeyondwhichkinkingtakesplace.Twopossiblereasonsarediscussed.Znoccurrenceinthe
nanowires was verified by energy dispersive X-ray (EDX) analysis. Corresponding to II/III 0.2%, the doping
concentrationisabout cm .
Keywords: GaAsnanowire; p-type doping;metal organicchemical vapor position; zinc-blende structure
DOI: 10.1088/1674-4926/32/5/053003 PACC: 0130;0220;7280E
1. Introduction system at a pressure of 100 Torr . Growth of P-GaAs
nanowirewascarriedoutinthefollowingsteps.(1)a4nmAu
Semiconductornanowires(NWs)areidealbuildingblocks
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