III族氮化物与光致氧化膜之极化场量能阶工程研究与光电声学元件应用.PDF

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2017-10-02 发布于天津
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III族氮化物与光致氧化膜之极化场量能阶工程研究与光电声学元件应用.PDF

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行量類行年年行立隆參理理呂金論理利年年目錄內容頁次計畫成果及說明摘要 I 第一章氮化鎵微型共振腔的製作與特性研究 A. 前言 1 B. 光致化學氧化與濕式蝕刻 1 C. 氮化鎵微型共振腔原理 4 D.氮化鎵微型共振腔製作與光學量測 6 第二章氮化鎵分佈式布拉格反射鏡及藍紫光雷射二極體製作及特性分析 A. 前言 10 B. 側向分佈式布拉格反射鏡理論 10 C. 元件製作與氮化鎵光致電化學蝕刻 14 D. DBR結構雷射元件發光頻譜分析 21 E. 總結 22 第三章以微米小球顯影術及光致化學蝕刻法製作氮化鎵次微米三角柱結構 A. 前言 23 B. 微米小球顯影技術 23 C. 光致化學蝕刻及濕示蝕刻的鏡面特性 25 D. 次微米三角柱製程 26 E. 三角柱結果與討論 29 F. 光學量測與討論 31 G. 結論 35 第四章氮化鋁鎵/氮化鎵表面聲波濾波器之製作及特性分析 A. 前言 37 B. 研究方法 37 C. 元件製作及特性分析 37 D. 量測結果與分析 40 E. 結論 51 第五章氮化鎵自然氧化膜 MOSFET 與氮化鎵 MESF