薄膜物理与技术B卷的答案.docVIP

《薄膜物理与技术》卷试题参考答案及评分细则 一、名词解释：（本题满分12分，每小题3分） 1、蒸发法2、溅射3、活性反应离子镀4、成核速率二、简答题：（本题满分88分） 1、什么真空？典型的真空系统由哪些部分组成？（5分）2、3、什么叫薄膜？试举出薄膜的5例应用。（8分）4、在溅射镀膜过程中，如何提高淀积薄膜的纯度，并指出防止淀积过程中的污染的措施。（10分）防止淀积过程中的污染的措施6、什么是有机金属化学气相沉积法，当选用含有化合物半导体元素的原料时需要满足哪些条件？（8分）（分）含有化合物半导体元素的原料时（分）（6分）（分）7、8、 （5分） 物理吸附是指吸附仅仅是由原子电偶极矩之间的范德华力起作用；化学吸附是指吸附是由化学键结合力起作用。（7分） 从吸附过程能量曲线上看，当入射到基体表面的气相原子动能较小时，处于物理吸附状态，其吸附能用Qp表示。（9分）当这种气相原子动能较大但小于或等于Ea时则可产生化学吸附。达到完全化学吸附，这种气相原子所具有的动能必须达到吸附能Ed的数量。（11分） 9、简述核形成与生长的步骤。（8分）10、什么是内摩擦现象？在薄膜中引起位错的原因有哪些？（9分）（分）（分）（分）11、