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PDP选址驱动芯片高压管设计-东南大学学报
第 卷第 期
33 2 东南大学学报(自然科 学版 ) Vol33No2
年 月
2003 3 ( ) Mar.2003
JOURNALOFSOUTHEASTUNIVERSITY NaturalScienceEdition
PDP选址驱动芯片高压管设计
吴建辉 孙伟锋 陆生礼
(东南大学ASIC工程技术研究中心,南京 210096)
摘要: 选址驱动芯片实现低压控制高压输出,其中高压管的设计是关键,文中提出了能与低
PDP
压CMOS工艺相兼容的高压管HVCMOS结构及其中的高低压转换电路,采用TSUPREM4与
MEDICI软件对其击穿特性进行了相应的模拟分析;通过对已流水的芯片中的高压管进行分析验
证看出该结构击穿电压大于80V,工作电流大于40mA.
关键词:等离子体平板显示;击穿;高压管;版图
中图分类号: ; 文献标识码: 文章编号: ( )
TN710 TN432 A 1001-0505200302013404
DesignofhighvoltagetransistorforPDPdatadriver
WuJianhui SunWeifeng LuShengli
( , , , )
NationalASICSystemEngineeringResearchCenterSoutheastUniversityNanjing210096 China
: ,
Abstract PDPdatadriveraccomplisheshighvoltageoutputcontrolledbylowvoltagesignalinthechip
( )
thekeyisthedesignofthehighvoltagetransistor.AhighvoltageCMOSHVCMOSbeingcompatiblewith
CMOSprocessandtheconvertcircuitofvoltagehavebeendesigned.ThecharacteristicabouttheHVCMOS
breakdownisanalyzedbysimulatingwithTSUPREM4andMEDICI.TheanalysisoftheHVCMOSinthe
approachedchiphasbeendoneanditshowsthatthebreakdownvoltageofthedesignedHVtransistoris
higherthan80Vandthecurrentismorethan40mA.
: ; ; ;
Keywords plasmadisplaypanelbreakthrough highvoltagetransistorlayout
等离子体显示屏( , )是 用 本文从国内芯片制作工艺出发,设计出一种能与
plasmadisplaypanelPDP .
利用气体放电产生真空紫外线激发荧光粉进行发光 低压CMOS相兼容
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