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- 2018-08-17 发布于天津
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光刻机多面体主基板的设计与算法-中国机械工程
中国机械工程第 卷第 期 年 月上半月
24 9 2013 5
光刻机多面体主基板的设计与算法
吴 飞 王 茜 袁志扬 魏 巍 陈文枢
暋 暋 暋 暋 暋 暋 暋
, ,
上海微电子装备有限公司 上海 201203
: ,
摘要 论述了一种扫描式投影曝光光刻机主基板的设计制造过程 在该主基板上需要安装投影物镜
。 , ,
和多个纳米级高精度测量分系统 为满足设计需求 规划了整机内部结构所需占用的最小三维空间 并
。 ,
基于计算几
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