半导体材料培训.ppt

半导体材料的应用 培训讲义 前言 感谢人力资源部给了我这次与产品工程师与工艺工程师交流的机会，我把我公司原材料的使用、检验、管理和原材料对产品产生的影响跟各位介绍一下。 各位产品工程师与工艺工程师在平时工作中，对原材料有什么要求和对原材料哪些性能需要了解，请及时与我联系。我希望在和各位工程师在密切的联系、协作中，使我公司原材料质量不断提高，进而使我公司产品质量不断提高。 半导体材料的分类 化学品 衬底材料 光掩模材料 封装材料 辅助材料 化学品 化学试剂 特种气体 光刻胶 化学试剂 用途 扩散源 清洗 腐蚀 技术等级 分析纯、优级纯、高纯低颗粒、MOS级、CMOS级 检验方法 供方出据检验报告单与我公司检验标准对照； 合格供方保证质量,出现问题质计部送检. 化学试剂 引用标准 日本东芝工艺标准、国家标准 合格供方 北京化工厂、沈阳第一试剂厂、沈阳化学试剂厂 试用厂家 江阴化学试剂厂 制备 原料检验——精镏——过滤——包装 包装：大包装和小包装可以根据工艺进行选择 扩散源 技术要求 纯度 颗粒 金属离子 硼源 有效成份为三氧化二硼,三氧化二硼在900℃时与硅发生氧化还原反应,三氧化二硼被还原为硼原子而淀积在硅片表面.其化学方程式是: 2B2O3+3Si =3SiO2+4B 磷源 液态源三氯氧磷在较高的温度下分解，其化学方程式是： 5POCl3=3PCl5+P2O5 然后五氧化二磷和硅发生氧化还原反应，五氧化二磷被还原为磷原子并淀积于硅片表面。其化学方程式是： 2P2O5+5Si= 5SiO2+4P 无机酸的化学清洗 盐酸(HCl) 盐酸是氯化氢气体溶解于水而形成的无色透明液体,易挥发,有刺激性气味.市售盐酸的百分比浓度为37% 盐酸是强酸,有化学清洗中主要利用它的强酸性来除去无机杂质 盐酸能与金属活动顺序表中氢以前的金属作用,能与碱性氧化物、两性氧化物和氢氧化物作用，能与碳酸盐作用。但盐酸不能与铜、银、金等重金属作用。 硫酸（H2SO4） 纯硫酸是无色油状液体，难挥发。市售硫酸的百分比浓度为98% 浓硫酸除有强酸性外，还有强氧化性、吸水性和脱水性。在化学清洗中，利用它的强酸性强氧化性和脱水性，可去除碱性氧化物、两性氧化物、氢氧化物、金属和有机物杂质 无机酸的化学清洗 硝酸（HNO3） 纯硝酸是无色透明液体，易挥发，有刺激性气味。市售硝酸的百分比浓度为68% 通常硝酸不稳定，在常温下见光就会分解成氧化物，水和氧气；分解生成棕色的二氧化氮溶解于溶液里，使用溶液呈黄色。为防止硝酸的分解，必须把硝酸盛在深色瓶中，放在黑暗而温度较低的地方。 硝酸是强酸，除具有酸的通性外，还有强氧化性，可去除碱性氧化物、两性氧化物、氢氧化物、金属等杂质 络合剂的清洗作用 氢氟酸 是氟化氢的水溶液，无色透明液体，易挥发、有刺激性气味、剧毒。百分比浓度40%。 氢氟酸是弱酸，但腐蚀性很强。其酸性比碳酸强而比磷酸弱。 氢氟酸的一个很重要性质是能腐蚀玻璃，即能溶解二氧化硅。用氢氟酸腐蚀硅片表面的二氧化硅薄膜，就是利于这个性质，反应方程式如下： SiO2+6HF= H2[SiF6] +2H2O 生成的H2[SiF6]是可溶性的络合物，可用纯水冲除，达到除去二氧化硅的目的。 氢氟酸能使皮肤，特别是骨胳造成难以治愈的灼伤，因此使用氢氟酸时应戴橡皮手套。 络合剂的清洗作用 氨水 氨水是无色、透明、易挥发、有刺激性气味的液体，是氨的水溶液。氨水的浓度为28 %。 氨水是一种弱碱，具有碱的通性，在化学清洗中主要作络合剂用 由于氨分子是一种很好的配位体，能与许多金属离子，如铜、银、锌、钴、镍、汞离子等形成稳定的络离子。使这此金属离子再也不能被硅还原为金属离子沉积在硅片上，因而能有效的将它们清除。 盐酸 盐酸除了前面所讲的强酸作用外，还具有络合作用。盐酸中的氯离子能与金、铂、铜、银等金属离子形成稳定的络离子，从而能将这些离子清除。 应用实例I 王水 王水是三份浓盐酸和一份浓硝酸组成的混合酸，能溶解金属之王的金、铂，故习惯上称为王水。 王水具有强氧化性，它的氧化性比浓硝酸强得多，在清洗中主要利用它的强氧化性。当这两种浓的强酸混和在一起时，会发生如下的反应。HNO3+3HCl=2H2O+2Cl+NOCl。 原子氯与金、铂等金属生成AuCl2、PtCl4等氯化物。然后再与盐酸（络合剂）反应生成稳定的的氯金酸根和氯铂酸根等络离子。其反应生成的氯金酸和氯铂酸等络合物溶于水，从而除去重金属杂质金和铂。 应用实例II I号液和II号液 I号液和II号液是以过氧化氢为基础的清洗液，一种是碱性的，另一种是酸性的。 I号液是利用氨水的碱性除去能溶于碱的有机杂质。利用过氧化氢的强氧化性将金属杂质氧化