多晶硅题库.docVIP

一、填空题 1、精馏塔内自下向上各块塔板上的温度逐板 降低 。 2.板式塔在正常操作过程中应使雾沫夹带量ev ﹤0.1㎏液体/㎏干气体 。 3.加料板将精馏塔分为两部分，加料板以下的部分称为 提馏段 。 4.在精馏操作中应严格维持全塔的总物料平衡，当进料量小于出料量时会引起 塔釜蒸干 。 5.为了使进入降液管内的液体有足够的时间释放气泡，必须保证液体在降液管内的停留时间 大于3～5秒 。 6.工业上常用的板式塔有 泡罩塔 筛板塔 浮阀塔 。 7.一般将精馏塔的加料板以上的部分称为 精馏段 。 8、当气体的流速过小时一部分液体从筛孔中漏下而降低了分离效率的现象称为 （漏液）。 9、按塔内两相接触方式分，塔设备可分为 板式塔 和 填料塔 。 13.塔板漏夜是指 当气体通过筛孔的速度较小时，一部分液体从筛孔直接落下的现象 。 14.在填料塔中，气液两相的接触方式是 逆流接触 。 15.板式塔从整体看，两流体的流动方式是 逆流 。 16.塔板从结构上可分为 有溢流和无溢流 两种类型。 17.塔板的气液接触元件指 使气体通过塔板时，将其均匀分散在液层中进行传质的气体分布装置 。 18.硅有 晶态 和 无定形 两种同素异形体， 19.冶金级多晶硅纯度为90﹪-95﹪ 太阳能级多晶硅纯度一般高于4N 电子级多晶硅纯度一般高于6N 20.目前使用最广泛的生产多晶硅的方法为 改良西门子法 21.天然水中的杂质总体来说包括三部分 悬浮物质，胶体物质，溶解物质 22.去离子水电阻率(25℃)可达到 10MΩ.CM 超纯水电阻率(25℃)可达到 18 MΩ.CM 。 23.阳离子树脂交换后的水显 酸 性，阴离子交换树脂交换后水显 碱 性 24.离子交换树脂在使用一段时间后会逐渐“失效”，必须“再生”后才能继续使用。交换树脂的再生是将离子交换树脂再生液中浸泡15min以上，阳离子交换树脂用 5﹪HCl 浸泡, 阴离子交换树脂用 5﹪NaOH 浸泡 25.工业硅生产设备分为冶炼设备，电气设备，机械设备三大部分。 26.电解水生成氢气一般要在内部加入20﹪-30﹪的KOH 27.常用净化氢气的方法有钯合金扩散法，吸附干燥法， 28.合成三氯氢硅是在 沸腾床中进行。 29.用氢还原多晶硅时温度要求比较严格为 1080-1100℃ 30.用氢还原多晶硅时反应主要发生在 硅芯表面 31.用工业硅和氯化氢气体生成三氯氢硅时温度要求比较严格为280-320℃ 32.用工业硅和氯化氢气体生成三氯氢硅时反应温度超过350℃时生成的主要产物已经不是三氯氢硅而是 四氯化硅 33.用工业硅和氯化氢气体生成三氯氢硅时反应温度低于280℃时生成的主要产物已经不是三氯氢硅而是 二氯氢硅 名词解释 液化---物质从气态变成液态的相变过程 汽化---物质由液态转变成气态的相变过程 蒸发---液态物质在任何温度下，从表面进行汽化的现象叫蒸发。 挥发度---某一组分的挥发度可以定义为该组分在蒸汽相中的分压与其在液相中平衡浓度之比 相对挥发度---混合溶液中两个组分的挥发度之比，称为相对挥发度。 全回流---精馏塔塔顶上升蒸汽经冷凝后，冷凝液全部回流至塔内，这种回流方式叫全回流 回流比----精馏塔塔顶上升蒸汽经冷凝后，冷凝液部分回流至塔内，部分作为产品，二者物质量之比。 理论板数----气液两相皆充分混合而且传质和传热过程的阻力皆为零的理论化塔板。 拉乌尔定律----在某一温度下，稀溶液的蒸汽压等于溶剂的蒸汽压乘以溶剂的摩尔分数。 道尔顿分压定律----某一气体在气体混合物中产生的分压等于在相同温度下它单独占有整个容器时产生的压力，而气体混合物的总压强等于其中气体分压之和。 精馏----把液体混合物进行多次部分汽化，同时又把产生的蒸汽多次进行部分冷凝，使混合物分离为所要求组分的操作过程称为精馏 理想溶液----符合拉乌尔定律的溶液称为理想溶液。 露点----把气体混合物在压力不变的条件下降温冷却，当冷却到某温度时，产生的第一个微小液滴的温度叫该混合物在指定压力下的露点温度。 泡点----液体混合物在一定的压力下加热到某一温度时，液体中出现第一个很小的气泡，即刚开始沸腾时的温度叫该液体在指定压力下的泡点温度。 二、选择题 1、关于理论板，下述说法中错误的是（ B：理论板是实际存在的，实际塔板就是理论板。） 2、在塔的设计和操作中，必须完全避免的现象是（B：液泛 ） 3、为了使进入降液管内的液体有足够